首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   160篇
  免费   53篇
  国内免费   12篇
化学   15篇
晶体学   2篇
力学   9篇
综合类   1篇
数学   2篇
物理学   196篇
  2024年   1篇
  2023年   7篇
  2022年   4篇
  2021年   14篇
  2020年   14篇
  2019年   7篇
  2018年   6篇
  2017年   3篇
  2016年   6篇
  2015年   6篇
  2014年   14篇
  2013年   7篇
  2012年   10篇
  2011年   6篇
  2010年   4篇
  2009年   8篇
  2008年   13篇
  2007年   17篇
  2006年   8篇
  2005年   5篇
  2004年   7篇
  2003年   1篇
  2002年   8篇
  2001年   8篇
  2000年   6篇
  1999年   6篇
  1998年   3篇
  1997年   4篇
  1996年   4篇
  1995年   3篇
  1994年   2篇
  1993年   5篇
  1992年   3篇
  1991年   1篇
  1990年   2篇
  1987年   2篇
排序方式: 共有225条查询结果,搜索用时 0 毫秒
11.
低曝光量下投影算法的稳健性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了在低曝光量情况下灰度投影算法的稳健性,为提出的稳定成像系统的设计与实现提供可行性论证。通过合成视频实验探讨、实际视频实验论证相结合的研究方法,探讨曝光量不足对灰度投影算法性能的影响。实验结果表明,灰度投影算法在欠曝5档和存在一定随机噪声的情况下,仍能保持良好的运动矢量估计性能,从而说明了投影算法在一定的曝光量范围内仍能准确地得到运动矢量估计,是一种运算量小、实时性好且稳健性较强的电子稳像算法。投影算法在低曝光量情况下良好的稳像稳健特性,使其能在低亮度及高实时性要求等环境下应用于航拍、卫星遥感等稳定成像或高清晰成像场合。  相似文献   
12.
切趾线性chirped光纤光栅的制作及其色散特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
《光子学报》2000,29(Z1):441-443
  相似文献   
13.
自动曝光相机与物理教学   总被引:1,自引:0,他引:1  
傅和平  熊中朝 《大学物理》1994,13(11):32-33
本文通过对自动曝光相机的原理分析,介绍了光度学,光学仪器原理,RC电路,光敏元件等在照相机领域的应用。阐明了普通物理与科技产品的联系。  相似文献   
14.
在基于衍射光栅光波导的增强现实近眼显示设备中,光栅的占空比均匀性对成像均匀性影响很大。提出一种提升全息光栅掩模占空比均匀性的罗艾镜曝光系统,该系统采用移动挡板和改变干涉场光强的方法,来补偿全息曝光时高斯光束光强不均匀导致的光栅掩模占空比不均匀。实验中使用该方法制备的光栅,其占空比的极差相比用传统罗艾镜曝光系统制作的光栅降低了66%以上;制成的衍射光波导片的纯色屏幕的均匀性至少提升30%。  相似文献   
15.
平面坡体渐进破坏模型及其应用   总被引:5,自引:0,他引:5  
平面坡体渐进破坏模型旨在通过在坡体稳定性分析中引进渐进坡坏的概念,来较合理地考虑岩土材料的峰值强度和残余强度在稳定性分析中的不同作用。通过与其它稳定性分析方法进行比较以及实例应用研究,证明该计算模型可用于初步判断坡体稳定状态并估算其破坏变形范围。这一研究也说明了水对边坡破坏的重要作用。  相似文献   
16.
本文给出一种试件表面处理方法,它可以解决对于各种材料试件(例如有色金属、黑色金属、玻璃钢、碳纤维复合材料、陶瓷、岩石、混凝土制品等)使用直接散斑法进行变形测量的问题。文中阐述了基本原理和操作方法,给出了在铝合金材料、碳纤维复合材料、玻璃钢复合材料试件上进行断裂力学实验的结果。  相似文献   
17.
本文用水下电火花微爆炸产生重复性极佳的球形冲击波,用双曝光全息干涉法测量了液电冲击波的传播,并观察到冲击波与水下电极之间的相互作用.实验结果表明此法适用于液电冲击波的测量,特别适用于由冲击波波前位移来确定其峰值压力分布.  相似文献   
18.
i线投影光刻曝光系统的光学设计   总被引:3,自引:1,他引:2  
林大键  李展 《光学学报》1995,15(3):47-351
叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率和数值孔径的关系。设计了一种新的双远心投影物镜,其数值孔径NA=0.42,放大倍率M=-1/5,像场尺寸15mm×15mm(直径21·2mm),共轭距L=602mm。用光学设计程序ZEMAX-XE计算此i线物镜的像质。设计结果说明,整个视场内波差<λ/4,MTF>0.55,当空间频率为715pairlines/mm,使用波长为365士3nm时。可以实现0.7μm光刻分辨率;照明均匀器,由81个小方型透镜组成一方列阵。用本文模拟计算软件OPENG计算被照像平面上的光能分布,说明实际系统的照明不均匀性为土2%。  相似文献   
19.
20.
X射线光刻技术的进展及问题   总被引:2,自引:0,他引:2  
X射线光刻是一种能满足下世纪初超大规模集成电路(VLSI)生产的深亚微米图形加工技术。论述了这种光刻技术的发展历史及近年来的主要进展。重点讨论了在X射线源、接近式曝光和全反射投影曝光等方面取得的成就与存在的问题。展望了这种技术的发展前景  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号