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分析了基于锥面衍射的双光栅光谱合成系统的可行性,设计了激光入射角为Littrow角附近的双多层介质膜(MLD)光栅光谱合成系统,开展了两路合成实验。当入射极角等于自准直入射角,入射方位角为6°时,光栅衍射效率近似等于光束自准直入射时的衍射效率。基于锥面衍射原理,对中心波长为1050.24 nm和1064.33 nm的两束光纤激光子束进行合成,入射极角为43.99°,测得合成效率为92.9%,较基于非锥面衍射的双光栅光谱合成系统的合成效率提高了8.8%;测得合成光斑光束质量Mx 2=1.204,My 2=1.467,与基于非锥面衍射的双光栅光谱合成系统输出光斑光束质量基本一致。 相似文献
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In-situ end-point detection during ion-beam etching of multilayer dielectric gratings 总被引:1,自引:0,他引:1
An in-situ end-point detection technique for ion-beam etching is presented. A laser beam of the same wavelength and polarization as those in the intended application of the grating is fed into the vacuum chamber, and the beam retro-diffracted by the grating under etching is extracted and detected outside the chamber. This arrangement greatly simplifies the end-point detection. Modeling the grating diffraction with a rigorous diffraction grating computer program, we can satisfactorily simulate the evolution of the diffraction intensity during the etching process and consequently, we can accurately predict the end-point. Employing the proposed technique, we have reproducibly fabricated multilayer dielectric gratings with diffraction efficiencies of more than 92%. 相似文献
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利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比 总被引:1,自引:1,他引:0
研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模占宽比(线宽与周期之比)的新方法。该方法基于下面的原理:如果某泄漏模在包层中的隐失尾较强,那么它的等效折射率受光刻胶光栅占宽比变化的影响就大,从而可以利用耦合角度来实时控制光栅占宽比。在光栅制作的显影阶段,采用实时监测技术,根据耦合角度和占宽比之间的关系预设入射光角度,在出现共振反常的时刻停止显影来控制占宽比。实验结果表明,固定适当的入射角度可以得到特定的占宽比;改变入射角度,占宽比按照预计的规律变化,因此定性地验证了这种占宽比控制方法的可行性。文中给出了监控装置和具体的实验方法,并讨论了误差来源和影响。 相似文献
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This study shows that the principle of a recently proposed common-path laser interferometer containing a planar grating is nonexistent and apparently caused by a mathematical derivation error. Both p-and s-polarized beams in the proposed setup experience once the +1st-order diffraction and once the-1st-order diffraction by the grating. As a result, the phase of each beam remains unchanged and the interference fringes formed by the two beams are not expected to move when the grating is translated in the grating vector direction. We perform an experiment to confirm this prediction. Both our analysis and experimental observation cast doubt on the experimental results of the authors who proposed the interferometer. 相似文献
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平场全息凹面光栅制作结构与使用结构之间误差补偿作用的数值模拟与实验验证 总被引:1,自引:0,他引:1
通过对优化计算出的平场全息凹面光栅制作结构(曝光记录结构)和使用结构(光谱仪分光结构)之间各个参数进行联合数值模拟,得出如下结论:在优化设计参数值附近一个较大范围的误差区域内,平场全息凹面光栅的制作结构参数误差和使用结构参数误差可以相互补偿,最终补偿的结果可以使光谱成像质量达到与原设计结构相当的水平,满足光谱仪器的使用要求。文章给出了数值模拟结果以及与其相符的实验验证结果。此补偿作用有利于降低平场全息凹面光栅制作中各个参数精度的调节难度,并且可以对实际使用过程中光谱仪器的设计和装调进行理论上的指导。 相似文献
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二维及三维流场的光学测量方法 总被引:10,自引:0,他引:10
对于复杂的非定常流动 ,流场的测量往往要求无干扰、非接触 ,并且能够瞬时记录流场的二维甚至三维信息。对近年来流场测量领域发展快速、应用广泛的几种光学测量方法 ,如 PIV技术及其由此发展而来的 DPIV和 HPV技术 ,做一些介绍和比较。 相似文献