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71.
研究了Eu(2+):BaFxCl2在紫外线辐照下的光激励发光。通过改变激励方式及激励光的扫描方向,给出了Eu(2+):BaFxCl2-x光激励发光过程中,两种F色心的浓度比值与光激励截面比值的测定方法。利用这种测定方法,进一步研究了两种F色心的浓度比值和光激励截面比值与F/CI比值的关系。  相似文献   
72.
本文介绍了APON的系统结构和网络分层,并根据AAL5 CPCS子层实现的功能及DSP的优良特性,给出了APON系统ONT中AAL5公共会聚子层的一种实现方案,即应用DSP实现CPCS子层的各项功能。  相似文献   
73.
磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的关系.  相似文献   
74.
光纤放大器增益饱和对有源光纤环形腔滤波特性的影响   总被引:3,自引:2,他引:1  
从理论和实验两个方面研究了有源光纤环形腔滤波器输入光功率对光纤放大器增益的影响及由此引起的对有源光纤环形腔滤波特性的影响。在考虑上述影响的情况下 ,对有源光纤环形腔滤波器参数的优化作了讨论  相似文献   
75.
考虑压力下势垒高度、激子结合能的改变等诸多因素的影响后数值研究了Ⅱ-Ⅵ族ZnCdSe/ZnSe量子阱重空穴激子的跃迁能量和压力系数,特别是压力系数随阱宽的变化规律。计算表明在SCPA近似下跃迁能量的计算与实验值吻合较好,而在压力系数的计算中必须计及材料的体积弹性模量随温度和压力的变化。证实了ZnCdSe/ZnSe量子阱重空穴激子的压力系数随阱宽增大而减小的结论。  相似文献   
76.
通过对“可见光区域是否存在Compton效应”的讨论而进一步深化到经典条件下“光的量子理论能否包含光的经典电磁理论”的实验验证,发现了Lorentz-Compton佯谬,并基于逆Compton散射设计了一个敏感而又可行的双赢判决性散射实验来解决此佯谬。  相似文献   
77.
The effect of finite control beam on the transverse spatial profile of the slow light propagation in an electromagnetically induced transparency medium is studied. From the second-order wave equation and linear response of an EIT medium to the signal field, we find it is possible to produce an effective waveguide for the signal field. The existence and properties of a set of localized, stationary transverse modes are demonstrated. Especially, by carefully manipulating the profile of the control beam, we can realize single-mode propagation for the signal field, which may be important for potential applications.  相似文献   
78.
用过氧聚钨酸(PPTA)水溶液,通过离心涂膜法在显微镜载玻片上制备了具有光滑表面且厚度为100nm的PPTA薄膜,利用PPTA薄膜在紫外光照下可研制光栅以及其它光学元件的薄膜材料,具有很高的利用价值。  相似文献   
79.
亚皮秒光脉冲在密集色散管理光纤中的传输特性   总被引:2,自引:0,他引:2  
文章从包含高阶效应的非线性薛定谔方程出发,基于一种二阶和三阶色散都作了完全补偿(零路径平均色散)的光纤级联系统模型,用数值法对亚皮秒(几百飞秒)高斯光脉冲在密集色散管理光纤(放大周期远远大于色散补偿周期,La>>Lc)中的传输特性做了研究.结果表明啁啾化亚皮秒光脉冲在短周期色散补偿光纤中可以实现稳定传输.色散管理的密集化程度越高,即色散补偿周期越短,光脉冲在光纤中传输时的呼吸度越小,前后脉冲间的相互作用也越弱,有利于提高光纤传输系统的性能.此外,由于色散管理孤子的系统功率较小,因此高阶非线性项的影响不大.  相似文献   
80.
对经过阴极还原处理后的多孔硅样片进行了光致发光测试和稳定性测试.实验结果表明这种处理能明显改善多孔硅的发光稳定性,使其表面结构更加稳定.利用原子力显微镜对不同还原时间的多孔硅微结构及形貌进行了比较,在一定范围内随着还原时间的增长多孔硅表面粗糙度增大,PL谱增强.  相似文献   
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