水环境中红霉素和罗红霉素抗生素光降解的研究

采用固相萃取分离富集,LC—MS-MS为检测平台,研究了水环境中低浓度（10mg／L）红霉素和罗红霉素的光降解效率及其影响因素。结果表明,在接近中性（pH=7．5）的水溶液中,经过1h的光照,两种抗生素的光降解率在30％以下;而在有2000mg／LTiO2催化剂存在时,光照15min,二者的降解率即可分别达95．5％和97．2%,此时溶液的pH值对光催化降解的影响不大。实验也表明,光直接降解反应和光催化降解反应均符合一级反应动力学。     

新型不对称苯并噻唑三次甲基菁染料的合成及光稳定性研究

合成了系列杂环氮原子具有不同取代基的不对称苯并噻唑三次甲基菁染料,染料结构经过质谱、1H NMR表征.测试了染料在乙醇中的吸收和荧光发射光谱,染料的最大吸收值和荧光发射值分别在628～631和662～666 nm之间.染料在溶剂中几乎无荧光,可以极大的降低染料自身的荧光背景干扰.染料的光降解实验表明:喹啉环上辛烷基取代和噻唑环上苄基取代时,染料的光稳定性最强.染料8a～8d的光降解速率常数分别为6.38×10-4,12.5×10-4,2.68×10-4和6.30×10-4mol min-1.循环伏安实验法测试了染料的氧化电位.     

2,4-二氯苯氧基乙酸的光转化化学发光机理研究

实验发现,2,4-二氯苯氧基乙酸(2,4-D)经紫外光转化后与KMnO4在H2SO4介质中反应可产生化学发光。采用液相色谱-质谱联用技术(LC-MS)对2,4-D光降解产物进行分析,推断光降解主要生成了多酚类降解产物,如2-氯对苯二酚(CHQ)和4-氯邻苯二酚等。化学发光光谱研究发现,2,4-D经紫外光转化后,与KMnO4反应的发光波长为690 nm,与2,4-D的典型降解产物CHQ的化学发光光谱一致。此发光现象是氧化还原过程中生成的Mn?吸收反应所释放出的化学能成为激发态,再返回基态时产生的特征辐射峰。该反应体系可用于2,4-D的检测,当2,4-D浓度在0.01～10 mg/L范围内与发光强度呈良好的线性关系;检出限为3.0μg/L。     

吲哚方酸菁染料在表面活性剂水溶液中的光降解

考察了4种含有不同N位取代基的对称吲哚方酸菁染料在阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、阴离子表面活性剂十二烷基硫酸钠(SDS)和非离子表面活性剂曲拉通(TX-100)水溶液中的光降解行为,结果表明,表面活性剂对染料分子具有保护作用,其影响大小为CTAB>TX-100>SDS,分子中有羧基的染料受影响程度最大。在表面活性剂浓度较低时,染料光降解程度随着表面活性剂浓度的增加而增加,但形成胶束后,染料的光降解程度则随着表面活性剂浓度的升高而降低。     

ZnO@P(AA/MMA/GMA)@Fe3O4复合微球：制备及光催化性能

采用导向沉淀法在胺化的P(AA/MMA/GMA)@Fe3O4(MCM,其中AA为丙烯酸,MMA为甲基丙烯酸甲酯,GMA为甲基丙烯酸缩水甘油酯)微球表面负载ZnO粒子制备得到了ZnO@P(AA/MMA/GMA)@Fe3O4(ZPM)三层结构磁性复合微球。通过XRD、SEM、粒度分析、TGA及VSM等手段对ZPM微球进行表征,结果表明:ZPM微球平均粒径为1.38μm,ZnO负载量为13.02%,比饱和磁化强度为8.64 emu.g-1。同时研究了ZPM微球的光催化性能,以罗丹明B(RhB)为被降解物,微球对RhB的吸附效率为50.07%,催化降解效率可达93.40%。     

UV/H2O2光助氧化降解丽华实军蓝制衣染料（英文）

本文对UV/H2O2光助氧化降解丽华实军蓝制衣染料的效果及其影响因素和动力学进行了研究。结果表明,UV/H2O2对丽华实军蓝染料废液具有很好的处理效果,用量少,处理浓度高,且在发生光助氧化降解的同时还伴随着光分解反应。UV/H2O2体系的光助氧化反应和UV体系的光分解反应均为表观一级反应,前者活化能9.71 kJ.mol-1,指前因子1.61 min-1,后者活化能50.3 kJ.mol-1,指前因子3.88×105min-1。染料溶液初始pH为强碱性(pH=12)时染料降解率最大。     

PBO在强质子酸溶液中的稳定性

研究了聚对亚苯基苯并二噁唑(PBO)在强质子酸多聚磷酸(PPA)和甲基磺酸(MSA)溶液中的稳定性,包括溶液温度、超声波对PBO溶液稳定性的影响以及环境气氛对PBO溶液光稳定性的影响。结果表明:在避光条件下长期放置时,PBO-MSA溶液对于温度比较敏感,而PBO-PPA溶液即使在高温下也很稳定;PBO在MSA溶液中的化学降解可分为两部分:首先是PBO本身的酰胺弱键断链,其次是噁唑环开环形成酰胺键并断链;PBO-MSA溶液在超声波作用下的降解属于应力诱导降解,符合超声波降解断链的一般规律;PBO溶液在氮气气氛中对紫外光相对稳定,而在氧气中光降解速率很快。     

TiO_2纳米粉体的制备及光催化活性

以钛酸四丁酯为原料，采用溶胶凝胶过程超临界干燥法制备了 Ｔｉ Ｏ２ 纳米粉体，并通过 Ｘ Ｒ Ｄ、 Ｂ Ｅ Ｔ、 Ｔ Ｅ Ｍ 等方法对所得样品进行表征． 制备的 Ｔｉ Ｏ２ 气凝胶具有很高的比表面积（４８８ ｍ ２ ·ｇ－ １），平均粒径为 ４．６ ｎｍ ，具有锐钛矿型晶体结构，经５００℃煅烧２ ｈ 所得的纳米粉体，锐钛矿型晶体结构更为明显，平均粒径６．７ ｎｍ ，比表面积 １５８ ｍ ２ ·ｇ－ １． 将它用于甲基橙溶液的脱色反应，具有高的光催化活性     

PbTiO3纳米粉的制备及光催化研究

本文对ＰｂＴｉＯ３纳米粉的非醇盐水相制备技术、表征及对染料溶液的光催化降解性能进行了一系列的研究。结果表明该合成方法反应温度低，工艺简单，所合成的ＰｂＴｉＯ３催化活性优于一般方法制备的ＰｂＴｉＯ３，具有良好的光降解染料废水的功能。     

UV photodegradation of polypropylene thick bars containing rutile-type TiO2 nanorods

Surface modified rutile-type titanium dioxide （CST） nanorods were used as a UV absorber in polypropylene （PP） thick bars in combination with the hindered amine light stabilizer （HALS） Chimassorb 944 （C944）. For all of the tested samples, the photodegradation was mainly limited in the region near the exposed surface, as proved by the carbonyl index and molecular weight. Compared with the typical HALS photostabilization system containing organic hindered phenol UV absorber Tinuvin~ 328 （T328）, the thickness of photodegradation region for PP/C944/CST was only a quarter to that for PP/C944 and PP/C944/T328, while the rates of reduction in molecular weight and increase in carbonyl index were much lower. Optical microscopic observation showed that the evolution of surface micro-cracks in PP/C944/CST was quite different from that in the other samples, while scanning electronic micrographs revealed that the depth of the micro-cracks in PP/C944/CST was much shorter than that in the others. It is therefore concluded that the protection of CST on PP thick bars is mainly attributed to the outstanding UV-shielding and cracks-blocking abilities.