激光防护材料注塑加工工艺的研究

采用聚碳酸酯为基材,掺杂激光吸收剂制备了防530nm和1060nm波长激光的防护材料,通过对加工温度和混合料在料筒中停留时间的研究,确定了材料的加工温度为280℃,混合料在料筒中的时间为3min,确定了防护材料的加工工艺条件,并对其光学密度、激光防护能量、可见光透过率和抗冲击强度进行了测试。结果表明防护材料在530nm和1060nm波长的光密度大于4,其防激光能量达150mJ,可见光透过率为17%,抗冲击强度高,完全可以满足一般激光防护材料的要求。     

悬浮粒子对电沉积Zn粉缓蚀性能的影响

在ＺｎＣｌ２镀槽中悬浮一定量的不溶性粒子，如石墨ＰｂＣ２，ＳｎＯ２，ＴｉＯ２，ＳｉＯ２等，电沉积制备Ｚｎ粉，并对其结构，形貌及腐蚀行为进行分析，ＳＥＭ的结果表明使用悬浮法可阻止Ｚｎ枝晶生长，悬浮ＰｂＯ２，ＳｎＯ２，ＴｉＯ２，ＳｉＯ２或Ｉｎ２Ｏ３等能明显地提高Ｚｎ粉在５ｍｏｌ／ＬＫＯＨ溶液中的缓蚀能力此外，文中还应用于分形理论对结果作了进一步讨论。     

椭球等高分布族中T^20的精确分布

设Ｘ～ＥＣｐ（ｕ１，Σ，φ），即Ｘ服从椭球等高布分；Ｘ１，Ｘ２，…，Ｘｎ是来自Ｘ的样本，作：Ｔ＾２０＝（Ｘ－ｕ）′Σ＾－１（Ｘ－ｕ），（Ｘ＝１／ｎΣ＾ｎｉ＝１Ｘｉ）本文将在一定条件下，给出Ｔ＾２０的密度函数。     

预裂爆破设计参数的理论分析

本文在分析不偶合装药爆破物理过程和动态冲击压力的基础上,研究了预裂孔的破坏型态;利用相应的破坏准则,推导了预裂孔临界和允许体积装药密度的理论计算式,并在总结已有的预裂成缝理论和实验成果的基础上,用裂断力学理论对成缝机理作了进一步探讨。考虑了岩体初始应力的影响,对裂缝扩展进行了定量描述,提出了预裂爆破炮孔间距的计算表达式。     

准一维无序系统的电子结构

利用负本征值理论的态密度计算方法，研究了准一维双链无序系统的电子结构。并针对系统大小，对角和非对角无序程等各种参数，探讨了电子的局域化，系统能量分布范围等问题。在引进无序参量后，对角无序主要引起电子局域态的增多，而非对角无序则使系统的能量分布范围发生变化。     

推广的Thomas–Fermi方法中适用的新式核密度

给出一种适用于推广的Thomas-Fermi方法(ETF)的密度形式.取SkM势参量,对几个球形核的基态性质进行了计算,结果优于通常采用的多参数密度形式.用期望值方法(EVM)给出的基态能量能重现H—F的计算结果.     

金属薄膜中的量子尺寸效应

运用最子统计的方法，计算金属薄膜中电子的态密度、电子密度、弛豫时间、计算结果表明：这些物理量都是金属薄膜厚度的函数，且随着薄膜厚度作周期性振荡。     

相依样本下条件密度双重核估计的强相合性

设（Ｘ１，Ｙ１），…，（Ｘｎ，Ｙｎ）是从取值于Ｒ＾ｐ×Ｒ＾ｑ的随机向量（Ｘ，Ｙ）中抽取的随机样本，在给定Ｘ＝ｘ的条件下Ｙ具有条件密度ｆ（ｙ│ｘ）。在本文中，我们考虑ｆ（ｙ│ｘ）的通常的和递归形式的双重核估计ｆｎ（ｙ│ｘ）＝ｎ∑ｉ＝１Ｋ１（Ｘｉ－ｘ／ａｎ）Ｋ２（Ｙｉ－６／ｂｎ）／〔ｂｎ＾ｑｎ∑ｊ＝１Ｋ１（Ｘｊ－ｘ／ａｎ）〕ｆｎ（ｙ│ｘ）＝ｎ∑ｉ－１Ｋ１（Ｘｉ－ｘ／ａｉ）Ｋ２（Ｙｉ－ｙ／ｂｉ）／ｎ∑ｊ     

非理想流体中的关联

本文给出非理想流体(非理想气体、等离子体及液体)的对偶关联性质的一般理论。文中给出了计算多组元、任意分子相互作用势体系的对偶关联函数的一般公式,以及由辐射(激光与微波)散射测定分子间相互作用势与对偶密度关联函数的理论基础。     

硅基超晶格Si1-xSnx/Si的能带结构

由于Si基发光材料能与现有的Si微电子工艺兼容,其应用前景被广泛看好. 设计具有直接带隙的Si基材料,备受实验和理论研究者的关注. 本文根据芯态效应、电负性差效应和对称性效应设计了Si基超晶格Si_1－xSn_x/Si. 其中Si_0.875Sn_0.125/Si为直接带隙材料. 在密度泛函框架内,采用平面波赝势法计算表明,Si_0.875Sn_{0.125相似文献}