液固界面的1,9—二苯基—1,3,6,8—壬四烯—5酮分子的STM研究

对于固液界面分子行为的研究在以下几个方面有着重要意义,如对润滑和吸附的更深入的了解、液晶在表面的取向、界面的分子的识别现象、催化、电荷及物质在超薄有机层中的传输等。从理论角度来说,单分子层的有序性也是人们非常感兴趣的课题。扫描隧道显微镜(STM)是80年代初发展起来的一种新型表面分析工具,对于单分子     

混合流体浸润相变的研究(Ⅲ)——二元系统的四相共存态

本文讨论二元Sullivan系统的一个特殊状态——二元四相系的浸润相变性质,该系统的许多性质可以通过对两个二元二相系的讨论而得到。结果表明:这一系统同时存在一级相变和二级相变。 关键词：     

C4馏份中的甲醇在磺化树脂上的吸附平衡测定

本文建立了适用于易挥发物系的液固吸附平衡静态测定法。测得了五种磺化树脂对C_4馏份中甲醇的吸附等温线,该汲附等温线能够用Li Zuohu方程很好地描述。实验结果还表明,在适当的湿含量范围内,HNA树脂对甲醇有很好的吸附选择性。     

第二届物理奖简介

 第二届“胡刚复、饶毓泰、叶企孙、吴有训物理奖”评审结果,共有4个项目7名同志光荣获奖.他们是:一 胡刚复物理奖(实验技术)获奖项目:高功率激光物理实验技术的发展获奖人:林尊琪主要贡献:在激光等离子体相互作用和球靶内爆动力学基础研究方面做了大量实验物理技术发展工作,包括:成功建立了国内适用于激光等离子体基础研究的七项先进配套诊断系统,其中多分幅X光背景照明诊断设备是国际首创,为相关联地研究激光内爆球靶两维动力学过程提供了重要技术基础.     

四溴双酚A锑铝双金属化合物的合成及其阻燃性能

以四溴双酚Ａ（ＴＢＡ）合成了在水和空气中稳定的四溴双酚Ａ合锑铝双金属化合物（ＴＢＡＳＡ）．通过ＩＲ、１ＨＮＭＲ和元素分析予以表征，并研究了其对聚乙烯（ＰＥ）和聚环氧乙烷（ＰＥＯ）的阻燃性能．结果表明，这种分子中含有溴、锑和铝的化合物，对聚乙烯和聚环氧乙烷等高聚物材料有高的阻燃性能与消烟效果．     

金催化化学发光新体系——苯并吡喃化学发光分析法测定金矿中的痕量金

本文提出了一种测定矿样中痕量金的化学发光分析法,氯化6,7-二羟基-2,4-二甲基苯并吡喃-H_2O_2化学发光体系,方法的检出限为7ppb。工作曲线线性范围是10～1000ppbAu,测定的相对标准偏差小于7％。应用本法测定矿样中的金,结果良好。     

Two New Diterpene Acetylxylosides from Aster veitchianus

Two new acetylxylosides,ent-manool-13-O-β-D-2′-acetylxylopyranoside(1)and entmanool-13-O-β-D-2′,4′-diacetylxylopyranoside(2)were isolated from Aster veitchianus.Their structures were elucidated by spectroscopic methods.     

Low-Temperature Growth of Polycrystalline silicon Films by SiCl4／H2 rf Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition

Polycrystalline silicon film was directly fabricated at 200℃ by the conventional plasma enhanced chemical vapour deposition method from SiCl4 with H2 dilution. The crystallization depends strongly on the deposition power.The maximum crystMlinity and the crystalline grain size are over 80% and 200—50Onm, respectively. The results of energy dispersive spectroscopy and infrared spectroscopy measurements demonstrate that the film is mostly composed of silicon, without impurities such as Cl, N, C and bonded H. It is suggested that the crystallization at such a low temperature originates from the effects of chlorine, i.e., in-situ chemical, etching, in-situ chemical cleaning, and the detachment of bonded H.