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张道中 《光谱学与光谱分析》2003,23(6):1238-1238,1202,1220
张志三,光谱学家。《光谱学与光谱分析》的副主编、顾问。早期致力于原子发射光谱应用的研究。建立较完善的分子光谱实验室,为我国光谱学的发展做出了贡献。热心进行激光光谱的应用研究,促进了我国激光物理,原子、分子物理的发展。张志三先生因病于2003年9月20日在北京逝世,享年83岁。张先生严以律己,宽厚待人,治学严谨的科学态度,深得科技界同行的爱戴和赞誉。得知张先生过世的消息,大家深为悲痛。张志三先生的生前好友于9月25日到医院向张先生作最后告别。 相似文献
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研究非Chetaev型变质量非完整系统的Lie对称性与Noether对称性以及其间的 关系,给出Lie对称性导致Noether对称性以及Noether对称性导致Lie对称性的条件. 相似文献
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A novel super-hydrophobic stearic acid (STA) film with a water contact angle of 166o was prepared by chemical adsorption on aluminum wafer coated with polyethyleneimine (PEI) film. The micro-tribological behavior
of the super-hydrophobic STA monolayer was compared with that of the polished and PEI-coated Al surfaces. The effect of relative
humidity on the adhesion and friction was investigated as well. It was found that the STA monolayer showed decreased friction,
while the adhesive force was greatly decreased by increasing the surface roughness of the Al wafer to reduce the contact area
between the atomic force microscope (AFM) tip and the sample surface to be tested. Thus the friction and adhesion of the Al
wafer was effectively decreased by generating the STA monolayer, which indicated that it could be feasible and rational to
prepare a surface with good adhesion resistance and lubricity by properly controlling the surface morphology and the chemical
composition. Both the adhesion and friction decreased as the relative humidity was lowered from 65% to 10%, though the decrease
extent became insignificant for the STA monolayer.
The project supported by the National Natural Science Foundation of China (50375151, 50323007, 10225209) and the Chinese Academy
of Sciences (KJCX-SW-L2) 相似文献
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