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点到直线的距离 总被引:3,自引:2,他引:1
空间解析几何的教学中 ,空间点、直线、平面之间的关系是学习的一个重点。点和直线的位置关系包括两种 :点在直线上 ,点在直线外。当点在直线外时 ,点到直线距离的计算随之出现。笔者在教学中发现 ,这一问题的解决可以涵盖空间解析几何教学中两点间距离、向量运算、直线方程、平面方程等诸多知识点。下面以一具体例题说明。例 求点 A( 2 ,4,1 )到直线 L:x+12 =y2 =z-2-3 的距离。解法一 先求过 A点与直线 L垂直的平面方程 .用点法式 ,得2 ( x -2 ) +2 ( y -4) -3 ( z -1 ) =0即 2 x +2 y +3 z -9=0 . 将直线方程用参数方程表示为x =2… 相似文献
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用电子吸收光谱法, 研究了五个电子受体系列和三个电子给体系列以及非同系列的给、受体共48个化合物间的弱电荷转移络合作用。发现所研究的同系列给体与同一受体作用; 或同系列受体与同一给体作用; 或同系列给体与同系列受体作用, 一般存在着明显的CT络合与表观不络合的现象。通常情况下, 同系序数大的化合物呈现表观不络合;有时, 同系序数大和小的化合物, 即同系物的两头均呈现表观不络合现象, 对此种现象用给、受体间前线分子轨道能级关系进行了讨论。 相似文献
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近年来,羟自由基(^.OH)对DNA氧化损伤已受到广泛关注,但是很少研究^.OH对RNA的氧化损伤。其实,RNA与DNA一样,也是核酸的两大组分之一,也有许多重要功能。所以^.OH攻击RNA也会引起重后果,会造成细胞功能衰退甚至细胞死亡等。为此,我们建立了Vit.C-CuSO4-Phen-H2O2-PNA这一产生和测定^.OH氧化损伤RNA的化学发光体系,以便加强^.OH氧化损伤RNA的研究。通过对本体系测定条件的研究,得出了本体系最佳组方是:Vit.C,CuSO4,Phen,H2O2和RNA,浓度分别为350μmol/L,55μmol/L,350μmol/L,0.2mol/L和20μg/mL,体系pH为5.5,体系终体积为1mL。随后,利用本体系检测了槲皮素,咖啡酸,黄芩甙和芦丁抗^.OH氧化损伤RNA的作用,发现这四种抗氧化剂均能有效抑制^.OH氧化损伤RNA的分子机理,结果发现,^.OH清除剂硫脲几乎抑制全部发光,推测是因硫脲清除了引发剂^.OH所致;O^-.2清除剂SOD只能抑制小部分发光;^1O2清除剂叠氮化钠和苯甲酸都能抑制绝大部分发光。这些事实提示,^.OH是RNA氧化损伤的引发剂;O^-.2只是导致RNA氧化损伤的次要因素,^1O2才是导致RNA氧化损伤的最主要因素。 相似文献
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对于固液界面分子行为的研究在以下几个方面有着重要意义,如对润滑和吸附的更深入的了解、液晶在表面的取向、界面的分子的识别现象、催化、电荷及物质在超薄有机层中的传输等。从理论角度来说,单分子层的有序性也是人们非常感兴趣的课题。扫描隧道显微镜(STM)是80年代初发展起来的一种新型表面分析工具,对于单分子 相似文献
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本应用自己合成的联萘20-冠-6作为活性载体,进行了五羟色胺分子选择性电极研究。电极在10^-^5-10^-^2mol/L浓度范围内对五羟色胺具有稳定的线性响应,平均斜率为63mV/PC,检测下限为2.7×10^-^6mol/L。 相似文献
68.
本文证明Weitzenbock空间中高维引力作用量可约化为4维空-时中的引力作用量与规范场作用量之和.由此作出结论:在Weitzenbock空间中也存在高维Kaluza-Klein理论. 相似文献
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阐述了紫外无机非线性光学晶体分子工程学探索方法的基本特点,具体分析深紫外无机非线性光学晶体硼铍酸锶(SBBO)以氟硼铍酸钾(KBBF)为主要参考晶体的分子设计方法,随后根据晶体结构研究、单晶培养、和非线性光学性能测定等实验结果讨论SBBO作为新型深紫外无机晶体的主要优点,即它既具有更短的紫外吸收边(接近155nm)和较大的非线性光学系数(d22(SBBO)=06×d22(BBO)=138pm/V),同时晶体无明显层状习性,并肯有良好的化学稳定性和机械性能 相似文献
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