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971.
用INDO系列方法对C28H3Cl, C28H2Cl2, C28HCl3, CH3Cl, CH2Cl2, CHCl3进行了几何构型优化, C28H3Cl, C28HCl3, CH3Cl, CH3Cl为C3v对称性,C28H2Cl2, CH2Cl2为C2v对称性, 这六个分子的基态都是稳定闭壳层分子, 以此构型为基础计算了上述分子的电子光谱, C28H4-nCln(n=1~3)的电子光谱属于理论预测性质。  相似文献   
972.
吴师  滕启文 《结构化学》2004,23(9):1065-1068
用INDO系列方法对C76Si2的17种可能异构体进行系统理论研究, 表明最稳定异构体是由C78(C2V)沿X方向椭球长轴所穿过的六元环上的2个C原子(29, 30)被Si取代所形成, 异构体稳定性随2个Si原子沿Z方向距离增加而降低, 且取代场所附近易成为进一步反应中心; C76Si2(29, 30)电子光谱吸收峰与C78相比发生红移, 主要是由于其对称性降低和LUMO- HOMO能隙变小。  相似文献   
973.
用高温AlN作缓冲层在Si(111)上外延生长出GaN薄膜.通过对薄膜表面扫描电子显微镜(SEM)和高分辨率双晶X射线衍射(DCXRD)的分析,确定缓冲层对外延层形貌的影响,分析解释了表面形貌中凹坑的形成及缓冲层生长温度对凹坑的影响.结果表明:温度的高低通过影响缓冲层初始成核密度和成核尺寸来影响外延层表面形貌.  相似文献   
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