甲硝唑药物锰配合物的合成及与DNA的相互作用

以甲硝唑与二价锰盐为原料合成了锰(Ⅱ)配合物[Mn₂(C₆H₉O₃N₃)₂(Ac)₄(H₂O)₂]·6H₂O,并根据元素分析、IR、 UV-Vis、电导率及热失重等方法对配合物进行了性质表征和结构推测。利用光谱分析法及黏度法分析对比了配体甲硝唑及其金属锰配合物与小牛胸腺DNA（ct-DNA）的相互作用,结果表明二者皆以插入方式与DNA相互作用,配体作用力强于配合物。     

液体的表面张力与内压力

建立了液体表面张力与内压力间的定量关系,并据此得到了液体表面层的厚度或分子间的有效作用距离。     

乙醇在正己烷中的解缔与超额焓

测定了不同温度和浓度下乙醇与正己烷液体混合物的热压力系数及内压,并用修正的van der Waals模型关联了这些实验数据,从模型参数B/A2得到了一个乙醇自缔合随组成而遭破坏程度的公式.根据这个公式设想了一个醇与烃的混合模型,建立了混合物的超额焓方程,它能够满意地描述上述混合物的超额焓随组成的变化规律,并显示物理和化学作用对HE的贡献     

空间逆布雷顿循环制冷机浅析

采用微型全动压气体轴承透平机械和金属紧凑式换热器的空间逆布雷顿循环制冷机 ,可获得 10 K～ 70 K温度级 1～ 5 W的冷量 ,是空间应用领域内热力循环性能系数最好的制冷机之一。而且具有无振动、长寿命的优点。通过对逆布雷顿循环制冷机系统和部件的改进 ,还可实现 4 .2 K～ 10 K温度下 m W级的冷量。文中主要分析了单级逆布雷顿循环制冷机的系统及主要部件 ,并对实现更低温度级的双级逆布雷顿循环制冷机作了简单介绍     

液体的自由体积与无热溶液理论的修正

用实际液体的自由体积取代vander Waals流体的自由体积，导出了修正的无热溶液理论；修正了似晶格模型中，每个格胞所占的节大小相同的假设，使原始的无热溶液理论成为修正后理论的一种特殊情况。     

丝阵负载Z箍缩可见光图像诊断系统

 主要介绍了为“强光一号”加速器丝阵负载Z箍缩实验设计的可见光图像诊断系统，系统时间分辨约为5 ns，空间分辨约为6.5 lp/mm，光谱响应范围365~750 nm。系统能够满足从早期单丝电离到等离子体柱飞散整个Z箍缩过程的诊断要求， 给出了系统在Z箍缩实验中获得的丝阵负载内爆图像序列，并对其反映的内爆现象进行了初步的唯象分析。     

液体内聚能的统计热力学研究

用统计热力学方法建立了一个液体内聚能模型。它能用来计算各种液体的内聚能和溶解度参数。考虑到液体分子间的强相互作用,引入了一个阻障因子,以修正其转动和振动对内配分函数的贡献。这个因子依赖于液体的密度,它与密度间的关系也在模型中导得。对溶解度参数的计算结果表明,与文献值的一致性令人满意。     

直流等离子体喷射CVD技术制备自支撑金刚石膜的新结构和新形貌

采用30kW高功率直流等离子体喷射CVD技术制备了自支撑金刚石膜的新型结构,通过使甲烷与氢气的浓度比随沉积时间变化的方法,制备了两层、三层和四层结构.扫描电镜结果显示所制备的层结构是由柱状晶和非常细晶粒组成的,而拉曼谱结果表明这层细晶粒具有纳米金刚石的激光散射特征.在甲烷与氢气的浓度比超过15;的沉积条件下,我们发现一种新形貌,这种形貌是由具有非常好的刻面的晶粒构成的.     

折射率调制脉冲射线探测技术原理验证

为验证折射率调制的脉冲射线束探测技术,建立了原理验证系统。该系统基于平行平板干涉原理,测量传感介质的折射率在射线激发下的瞬时变化。传感介质为GaAs,探针光为1310nm单模激光,外界激发射线源平均能量为300keV,脉宽为20ns。使用带宽775kHz的近红外InGaAs光电探测器,观测到了GaAs晶体在脉冲射线激发下的折射率变化。初步理论分析表明,射线脉冲在GaAs中产生的非平衡载流子浓度为1014 cm-3量级,折射率变化为10-6量级。折射率变化的实验结果与理论计算在量级上是符合的。实验结果表明,基于折射率调制的脉冲射线束探测技术基本可行,利用该系统可进一步发展高时间分辨的脉冲射线束探测技术。     

金刚石自支撑膜拉曼光谱1420cm-1特征峰研究

采用带有半封闭式气体循环系统的100千瓦级直流电弧等离子体喷射CVD设备制备三组不同质量的金刚石膜,通过532 nm激光激发金刚石膜的拉曼光谱时,除1332 cm-1金刚石一阶拉曼峰外还出现了1420 cm-1宽峰,本文针对这一峰位的由来及分布进行研究。结果表明,增加或降低拉曼激发波长该峰为都不复存在,不符合材料的拉曼特征频移与激发波长无关这一原则,证明其并非本征拉曼峰;采用488 nm激发和514 nm激发时拉曼光谱分别出现了与1420 cm-1峰型一致的3125 cm-1和2060 cm-1峰,将拉曼频移转换为波长后发现,三个峰位都对应于波长575 nm(2.156e V);575 nm为金刚石膜荧光光谱中常见峰位,对应于氮杂质相关的[N-V]0中心,这表明含氮杂质金刚石膜采用532nm激发时产生的1420 cm-1峰是[N-V]0相关的氮杂质引起的荧光峰;采用532 nm对金刚石膜形核面和生长面的拉曼面扫描结果表明,[N-V]0相关的氮杂质存在于金刚石膜表面晶粒与晶界各处,并存在一定程度的偏聚。