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971.
This paper is concerned with the existence of positive solutions of two-point Dirichlet singular and nonsingular boundary problems for second-order quasi-linear differential equations with changing sign nonlinearities.  相似文献   
972.
In this paper, from the Newton filtration’s point of view, we construct the singular Riemannian metric and use the method in singular theory to study the bifurcation problems, and give the sufficient condition of d-determination of bifurcation problems with respect to C 0 contact equivalence. The special cases of the main result in this paper are the results of Sun Weizhi and Zou Jiancheng.  相似文献   
973.
1引言 有限体积方法[l]一l’]作为守恒型的离散技术,被广泛应用于工程计算领域.文【2,3} 基于分片常数和分片常向量函数空间,对二维驻定对流扩散方程提出了一类非协调混合 有限体积(Covolume)格式,证明了格式具有。(hl/2)收敛精度.但该格式要求对偶剖分 比较规则,即采用重  相似文献   
974.
Bi3.25La0.75Ti3O12 (BLT) thin films were fabricated on Pt/Ti/SiO2/Si(1 0 0) substrates by chemical solution deposition (CSD), and the dependence of ferroelectric and dielectric properties of the as-deposited BLT thin films on excess Bi content in precursor sols was studied. It is found that the prepared BLT thin film shows the best polarization-electric field, capacitance-voltage and dielectric constant (?r)-frequency characteristics, when the value of excess Bi content in precursor sols is 10%. In detail, its remnant polarization (2Pr) value is 40 μC/cm2, the capacitance tunability is 21% measured at room temperature under conditions of an applied voltage of 8 V and measurement frequency of 10 kHz, and the ?r is 696 at 100 kHz frequency.  相似文献   
975.
双缺陷模一维光子晶体的双光子吸收增强研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用真空镀膜工艺制备了具有762 nm和800 nm双缺陷模的含两个CdS缺陷层的TiO2/SiO2一维光子晶体,运用抽运探测技术测量了其双光子吸收。对于两个缺陷模,双光子吸收均得到很大的增强,其中缺陷模为800nm时的双光子吸收系数307 cm/GW要大于缺陷模为762 nm时的116 cm/GW,分别为单层CdS薄膜的48倍和18倍。这种双光子吸收的增强是由于光局域化导致一维光子晶体缺陷层内的电场强度增大而形成的。通过传输矩阵法计算了一维光子晶体的内部场强,发现800 nm波长光入射时缺陷层内的电场强度要大于762 nm波长光入射时的电场强度值。  相似文献   
976.
Antimonide-based superlattices dedicated to the elaboration of opto-electronic devices have been studied by X-ray scattering techniques. In particular, specular and non-specular X-ray reflectometry experiments have been performed on two MBE-samples elaborated with different shutter sequences at the interfaces. The results have shown a limitation of the incorporation of Sb species in the subsequent InAs layer for one of the samples, as expected.Then, a study on a InGaAs-cap layer/(InGaAs/AlAsSb)N superlattice grown on a InGaAs/InP buffer layer by both specular X-ray reflectometry and High resolution X-ray diffraction is reported. In particular, the results have revealed the presence of a highly disturbed thin-layer on top of the MOVPE-made GaInAs, whose presence has been explained by In-concentration modification during the desoxidation procedure at the surface of the MOVPE-made GaInAs.Beside the results on the Sb-based heterostructures, the use of X-ray scattering metrology as a routinely working non-destructive testing method has been emphasized.  相似文献   
977.
Model and empirical study on some collaboration networks   总被引:8,自引:0,他引:8  
In this paper we present an empirical study of a few practical systems described by cooperation networks, and propose a model to understand the results obtained. We study four non-social systems, which are the Bus Route Networks of Beijing and Yangzhou, the Travel Route Network of China, Huai-Yang recipes of Chinese cooked food, and a social system, which is the Collaboration Network of Hollywood Actors. In order to explain the results related to the degree distribution, act-degree distribution and act-size distribution (especially about the degree distribution, which may be better fitted using a stretched exponential distribution (SED)), we suggest a simple model to show a possible evolutionary mechanism for the emergence of such networks. The analytic and numerical results obtained from the model are in good agreement with the empirical results.  相似文献   
978.
萨宁  康晋锋  杨红  刘晓彦  张兴  韩汝琦 《物理学报》2006,55(3):1419-1423
研究了HfN/HfO2高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中,负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO2高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm,内含原生缺陷密度较低.研究表明,由于所制备的HfN/HfO2 高K栅结构具有低的原生缺陷密度,因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征,而非工艺缺陷引起的;进一步研究表明,该HfN/HfO2高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO2基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征,可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征: HfN/HfO2 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理,即在负 偏置和温度应力作用下,从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生,并由此产生了Si陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ,这种Si陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生. 关键词: 高K栅介质 负偏置-温度不稳定性(NBTI) 反应-扩散(R-D)模型  相似文献   
979.
Superconducting films of Bi-Sr-Ca-Cu-O on (100) MgO substrates have been fabricated by XeCl-excimer-laser sputtering from ceramic targets of Bi2.5Sr2Ca2Cu3Oy in O2 atmosphere. The films were polycrystalline with the c-axis (30.80±0.02Å) preferably oriented normal to the substrate surface. Without post-annealing the films showed metallic resistance behavior with zero resistance temperatures of up to Tc(0) }- 79 K. The critical current density of the films had values of up to jc(50K)}- 104 A/cm2.  相似文献   
980.
符号几何规划的一种分解方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对符号几何规划提出了一种直接的分解方法,将难于求解的符号几何规划问题等价地转化为一个非线性程度很低的可分离规划,为寻求困难度高且规模较大的符号几何规划问题的求解提供了一种方法,特别是经此方法分解后的每个子问题均易于求解,最后给出了数值实例,验证了此方法的有效性.  相似文献   
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