Ce3+-冠醚配合物的紫外有机电致发光

采用5d-4f跃迁的稀土Ce³⁺-冠醚配合物(Ce-二环己基并-18-冠-6,Ce-DC18C6)作为发光掺杂剂,4,4'-二(9-咔唑基)联苯(CBP)为基质,设计制备了紫外发光器件:ITO/CuPc/Ce-DC18C6:CBP/Bu-PBD/LiF/Al,首次观测到峰位于376nm的Ce³⁺离子的紫外电致发光。通过对比器件的EL谱与Ce³⁺-冠醚配合物薄膜的PL谱发现,EL光谱中有部分来自Ce³⁺配合物中的Ce³⁺离子的。这种5d-4f电子跃迁的掺杂质量分数为3%时,该UV-发光器件的最大辐射功率为13μW/cm²。     

Ising自旋体系的非平衡动态相变

在平均场理论架构下, 以含时金兹堡-朗道和Glauber动力学这两类动态模型为基础，研究 了受外场和温度共同驱动的Ising自旋体系的非平衡动态相变.确定了界定动态无序(动态顺 磁相P)和动态有序(动态铁磁相F)转变的动态相界.并根据动态序参量Q和Binder参数U随系统 温度t(r₀)、驱动外场频率ω和振幅h₀的变化规律，就上述两类模 型的动态相界上是否存在区分连续动态转变和非连续动态转变的三临界点这一引发争议的问 题做出了进一步分析说明. 关键词： Ising自旋体系 非平衡动态相变 含时金兹堡-朗道模型 Glauber 动力学模型     

拟南芥胚的不同区域对MeV离子辐照的响应

利用不同能量的质子在大气环境中辐照拟南芥的含水种子，能量从1.1MeV到6.5MeV.根据模拟计算结果，相应能量的离子对种子的损伤区域分别为胚的浅层、胚的一半和整个胚.本实验中，具有较高能量的质子可以完全均匀地作用于拟南芥生长、发育及遗传密切相关的胚茎端分生组织，而能量较低的质子则不能直接作用于茎端分生组织.实验所用质子注量范围为4×10⁹ions/cm²—1×10¹⁴ions/cm².实验结果显示，虽然拟南芥种子的发芽率和幼苗存活率随离子注量增加都呈现下降的趋势，但对应于不同的胚损伤区域，即在不同的入射质子能量条件下，注量曲线具有各自的特征.实验结果显示，拟南芥种子中除了胚茎端分生组织作为对离子辐照敏感的辐射主靶外，茎端分生组织之外的胚区域可能作为离子辐射次靶，影响到最终的辐射生物学效应. 关键词： 离子辐照 拟南芥 胚区域 生物效应     

闭模糊拟阵模糊基的判定

通过讨论闭模糊拟阵的导出拟阵序列和模糊基的结构,找到了判定闭模糊拟阵的模糊基的一个充要条件。根据此充要条件,给出了从导出拟阵序列得到闭模糊拟阵的模糊基的一种算法。     

脑细胞激活素药物的化学成分分析

采用日本岛津LC-60A型高压液相色谱仪和美国P-E3030型原子吸收分光光度计，对该药进行了氨基酸、维生素和化学元素的含量测定。结果表明，该药含有18种氨基酸，不少于3种维生素和20几种化学元素，为进一步改进该药物的合理配制方法和临床应用提供了参考数据。     

B值鞅型序列的一些极限定理

本文讨论了一些B值鞅型序列的强大数定律 ,弱大数定律 ,Lr收敛性及完全收敛性 ,推广了许多熟知的结果 .     

Bloch Oscillations of Two-Component Bose-Einstein Condensates in Optical Lattices

We study the Bloch oscillations of two-component Bose-Einstein condensates trapped in spin-dependent optical lattices. The influence of the intercomponent atom interaction on the system is discussed in detail Accelerated breakdown of the Bloch oscillations and revival phenomena are found respectively for the repulsive and attractive case. For both the cases, the system will finally be set in a quantum self-trapping state due to dynamical instability.     

High temperature superconducting thin films for microwave filters

YBa₂Cu₃O_7-δ and Tl₂Ba₂CaCu₂O₈ thin films for microwave filters were synthesized by pulsed laser deposition and the two-step thalliation process. Substrate quality requirements and the relation of thin film morphology, microstructure with microwave surface resistance were discussed.