355 nm纳秒紫外激光辐照下熔石英前后表面损伤的对比研究

为了理解前后表面损伤不对称性的物理内涵, 利用阴影成像技术研究了纳秒紫外激光诱使熔石英光学元件表面损伤的时间分辨动力学过程.研究表明,纳秒紫外激光与熔石英作用过程中前后表面损伤的物理机理是完全不同的.前表面处空气中等离子体和冲击波较强, 等离子体的屏蔽作用抑制了余脉冲能量的沉积, 降低了元件损伤程度.而后表面处等离子体吸收激光能量膨胀, 对后表面冲击作用更为严重, 形成的等离子体电子密度可达到10²³cm^-3以上, 反射部分激光能量与入射的激光余脉冲干涉, 使得 关键词： 熔石英 激光诱使损伤 阴影成像技术 光学元件表面     

基于SBS效应激光波长对光学材料损伤的影响

从耦合波理论出发,采用纵向受激布里渊散射(SBS)模型,通过时域有限差分法数值求解了瞬态SBS耦合波方程组,得到了泵浦光、Stokes光强度及声波产生应力随时间的分布;研究了在三种常见波长激光(基频、倍频和三倍频)作用下SBS效应的发展过程及其对光学材料损伤过程的影响。结果表明:种子光作用主要体现在SBS起振阶段,一旦进入稳态阶段,Stokes光强及应力发展的最大值、稳态值依赖于泵浦光的大小;在相同脉冲宽度下,激光波长越短,SBS发生越早,发展越快,更易造成光学元件的力学损伤;三倍频激光产生最大应力为基频光产生最大应力的100倍,且相比于倍频激光,产生最大应力的时刻要提前15ns。     

Effects of Vacuum on Fused Silica UV Damage

Damage points induced by 355 nm laser irradiation increase more quickly on the surface of fused silica in vacuum of about 10^-3 Pa than in atmospheric air at the same fluence. The larger concentration of point defects in vacuum is confirmed by photoluminescence intensity. X-ray photoelectron spectroscopy and infrared absorption indicate the formation of sub-stoichiometric silica on the surface. The degradation mechanism of fused silica in vacuum is discussed.     

CO2激光预处理对熔石英表面影响的实验研究

为研究CO2激光预处理参数对熔石英基片表面的影响,采用波长为10．6μm,重复频率为100Hz的CO2激光对完好的熔石英基片进行单点单次辐照处理。实验发现,对于不同的修复程度,面形变化不完全相同,损伤斑的形貌也各不相同。实验得到了适合修复的参数范围,并研究了修复对于材料粗糙度和疏水性的影响。对中度修复的取样点表面的局部粗糙度进行了统计,发现预处理过程中的污染沉积物在一定范围存在。在此基础上对污染的影响范围分布规律进行了统计。     

高分子载体Lewis酸催化剂:苯乙烯、丙烯腈共聚物-四氯化钛复合物

高分子催化剂是功能性高分子的重要组成部分,是目前催化剂研究的方向之一,近年来发展很快。我们曾将在空气中强烈水解的Lewis酸四氯化钛与聚苯乙烯反应制备了一种比较稳定的复合物,它对酯化、缩醛、缩酮等有机反应具有良好的催化效能,也可作为α-甲基苯乙烯正离子聚合的有效催化剂,在室温下即可获得高分子量的聚合物。为了进一步改进其稳定性和重复使用性能,本文合成了一种苯乙烯与丙烯脂的共聚交联小球,然后与四氯化钦反应制成了一种更加稳定的高分子载体Lewis酸催化剂,它不但对醋化、缩醛、缩酮等有机反应有很高的催化活性,而且重复使用性能大为改善,是一种很有希望应用于实际的高分子催化剂。     

高速流场中高频振动面板的能量辐射传递模型研究

为了考察高速流场对面板高频振动的影响,建立了高速流场环境中面板的能量辐射传递模型。针对高速流场环境中的二维面板,引入受高速流场影响的波数和群速度,建立了能量密度控制方程,推导了高速流场环境中面板的能量密度和能量强度的核函数。实源强度由导纳法计算得到的输入功率表示,虚源强度通过边界的能量平衡方程确定,根据惠更斯原理,板的能量响应由实源产生的直接场与虚源产生的反射场线性叠加得到。最后,通过将本研究所提能量辐射传递法(RETM)的计算结果与解析解对比,验证其正确性,同时分析了高速流场对板能量响应的影响。本研究为高速流场环境下飞行器面板的高频振动响应预测提供了一种有效的分析方法。