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1.
采用多靶磁控溅射法制备了一系列具有不同Al2O3调制层厚度的TiN/Al2O3纳米多层膜.利用X射线能量色散谱、X射线衍射、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的成分、微结构和力学性能.研究结果表明,在TiN/Al2O3纳米多层膜中,单层膜时以非晶态存在的Al2O3层在厚度小于1.5 nm时因TiN晶体层的模板效应而晶化,并与TiN层形成共格外延生长,相应地,多层膜产生硬度明显升高的超硬效应,最高硬度可达37.9 GPa.进一步增加多层膜中Al2O3调制层的层厚度,Al2O3层逐渐形成非晶结构并破坏了多层膜的共格外延生长,使得多层膜的硬度逐步降低. 相似文献
2.
糠醛缩氨基硫脲合镍配合物的合成、晶体结构及表征 总被引:1,自引:0,他引:1
合成了糠醛缩氨基硫脲的Ni(Ⅱ)单核配合物,通过红外光谱、紫外光谱、X射线单晶衍射和热重-差热分析等手段对其结构进行了表征.单晶结构解析结果表明,标题化合物属于三方晶系,R3-空间群,晶胞参数为:a=1.4097(1)nm,b=1.4097(1)nm,c=2.0952(2)nm,α=90°,β=90°,γ=120°,V=3.6059(4)nm3,Z=9,Dc=1.638Mg/m3,μ=1.488mm-1,F(000)=1818,R1=0.0231,wR2=0.0619.配合物中镍离子采用4配位的平面正方形配位构型,晶体堆积中通过分子间氢键形成三维网状结构. 相似文献
3.
卡拉胶的制备,性质及应用研究 总被引:6,自引:0,他引:6
卡拉胶的制备、性质及应用研究柏云杉(盐城职业大学江苏224002)卡拉胶(Carrageenan)是从海藻中提取出来的一种多糖,其结构根据原料来源不同而不同,可溶于热水,不溶于乙醇、异丙醇等,基本骨架是α-1,3和β-1,4苷键支替联结形成的半乳聚糖... 相似文献
4.
WOx/TiO2光催化剂的可见光催化活性机理探讨 总被引:6,自引:0,他引:6
采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上,溅射氧化钨层,通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明,WOx/TiO2薄膜具有可见光活性.通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索.UV-Vis吸收光谱表明WOx,TiO2对可见光响应的范围有一定的扩展,吸收强度增加.XPS表明WOx/TiO2薄膜表面形成了明显的W杂质能级和Ti缺陷能级,这是WOx/TiO2在可见光范围有一吸收的主要原因,也是光催化剂具有可见光活性的必要条件之一,同时杂质能级的存在使半导体费米能级上移,载流子增加,光催化效率提高. 相似文献
5.
6.
7.
合成了通过N-N键桥联的不对称的N2O3席夫碱配体(H3L)的镍(Ⅱ)配合物[Ni2(HL)2]2(DMF)8(H2O)2 (1)。配合物晶体属于三斜晶系,空间群为P1,a=1.273 5(2) nm,b=1.360 4(3) nm,c=1.427 6(3) nm,α=85.358(4)°,β=63.513(3)°,γ=79.545(4)°,V=2.176 8(7) nm3,Z=1,F(000)=980,R1=0.073 6。配合物1的不对称单元中含有两个双核结构Ni2(HL)2(DMF)2(H2O)2 (Ⅰ)和Ni2(HL)2(DMF)4 (Ⅱ)以及两个DMF溶剂分子。通过酚基氧原子桥联的镍-镍距离分别为:Ni(1)-Ni(1A),0.308 4 nm;Ni(2)-Ni(2B),0.310 3 nm(对称操作:A:1-x,2-y,-z;B:1-x,1-y,1-z)。金属镍(Ⅱ)离子采取扭曲的八面体配位构型,一个配体的NO2三齿配位单元和另一个配体的酚基氧原子位于赤道面位置,两个溶剂分子占据轴向位置。晶体中存在着分子内以及分子与溶剂分子间的两种氢键作用。配合物1的变温磁化率测定表明,Ni(Ⅱ)离子之间的反铁磁耦合作用在它的磁性质中起主导作用。 相似文献
8.
采用水热合成法制备了一个一维配位聚合物{[Co(dpa)(H2O)4].(dpdo).(H2O)}n(1)(H2dpa=2,2′-联苯二酸,dpdo=N,N′-二氧化-4,4′-联吡啶),通过红外光谱、紫外光谱、元素分析、XRPD、TGA和X-射线单晶衍射进行了表征。Co(Ⅱ)原子采取了畸变的八面体构型,6个配位氧原子分别来自于2个dpa2-配体和4个配位水分子。每一个dpa2-配体桥联2个Co髤中心,每一个Co(Ⅱ)原子与2个dpa2-配体配位进而形成了21螺旋链结构。借助溶剂水分子的连接作用,螺旋链之间通过多种O-H…O氢键作用形成了2D网格,通过dpdo和2D网格之间多种类型的氢键作用形成了三维超分子结构。测定了室温下聚合物1的固体荧光光谱。 相似文献
9.
研究了Si3N4层在ZrN/Si3N4纳米多层膜中的晶化现象及其对多层膜微结构与力学性能的影响. 一系列不同Si3N4层厚度的ZrN/Si3N4纳米多层膜通过反应磁控溅射法制备. 利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能. 结果表明,由于受到ZrN调制层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的Si3N4层在其厚度小于0.9 nm时被强制晶化为NaCl结构的赝晶体,ZrN/Si3N4纳米多层膜形成共格外延生长的柱状晶,并相应地产生硬度升高的超硬效应. Si3N4随层厚的进一步增加又转变为非晶态,多层膜的共格生长结构因而受到破坏,其硬度也随之降低. 相似文献
10.
2008年高考数学全国卷Ⅱ理科第4题为:若x∈(e-1,1),a=lnx,b=2lnx,c=ln3x,则
A.a相似文献