用湿法刻蚀技术制作衍射光学元件

研究了氢氟酸(HF)湿法刻蚀石英玻璃的化学机理，探索了针对衍射光学元件制作的刻蚀工艺，得到相关实验规律和工艺参数。最后对实验误差进行定量分析，得到湿法刻蚀的可控精度。     

气液色谱法研究一些五员杂环和Ni[CF_3COCHC(C_4H_4S)=NCH_2]_2加合反应的热力学性质

用气液色谱法研究过一系列作为Lewis碱(B)的有机配体和作为Lewis酸(A)的配合物之间的加合作用.研究较多的碱已有脂肪醇、醚、酮、醛、脂及胶等.对生物体系中广为存在的杂环配体碱的工作还很少.本文着重研究噻吩,呋喃和吡咯这类小分子杂环配体和Ni[CF_3COCHC(C_4H_4S)=NCH_2]_2(以下简称A)配合物的加合反应. Ni[CF_3COCHC(C_4H_4S)=NCH_2]_2的合成参考文献.固定液角鲨烷系英国进口,     

尼龙66/蒙脱土复合材料结晶行为的研究

在密炼机中采用熔融共混法制备蒙脱土重量分数为 2 5 %、4 5 %的尼龙 6 6 /蒙脱土复合材料 .通过DSC法对非等温结晶行为及在 2 2 8～ 2 4 0℃范围内的等温结晶行为进行研究 ,并与纯尼龙 6 6进行比较 .从其等温和非等温结晶行为的研究表明 ,蒙脱土起成核剂的作用 ,它的填入使尼龙 6 6结晶速率提高 ,但填料与基体间的相互作用使其链段运动困难 ,结晶活化能提高 ;在研究的填料含量变化范围内 ,结晶行为变化不大 ,并且找到该复合材料在 2 2 8～ 2 34℃范围结晶对温度的不敏感区 ;对非等温结晶过程分析 ,刘结平 莫志深方程是适用的 ,而Ozawa方程则是不适用的 .     

集成滤波器在谱图信号除噪中的应用

本文提出了一种由神经元网络与线性自适应滤波器组成的集成滤波器的实现方法，用于谱图信号除噪处理。     

稀土防止高铅青铜偏析的研究

研究了混合稀土对高铅青铜(ZQPb25-5)中铅偏析的影响。结果表明,0.5～1.0％混合稀土能有效地防止铅的比重偏析和逆偏析。文中对比了稀土与镍防止铅偏析的效果。稀土在高铅青铜中主要以化合物形态分布在铜的基体上,促使α枝晶细化并提早析出,从而抑制富铅溶体的下沉及表逸,导致铅偏析倾向明显减弱。适量稀土还可以提高合金的力学性能,尤其是塑性。此外,稀土可部分替代合金中锡的含量。     

聚苯类共轭聚合物的合成及荧光特性研究

聚苯类共轭聚合物的合成及荧光特性研究李建科阳明书漆宗能王佛松（中国科学院化学研究所工程塑料国家重点实验室北京１０００８０）关键词聚对苯，共轭聚合物，吸收光谱，荧光光谱，发光共轭聚合物在非线性光学、光电化学池、二次电池等方面有着广泛的应用前景，近...     

液相还原法制备超细球形镍粉

本文论述了液相还原法直接制备高振实密度球形镍粉的新工艺。采用NiSO_4·5H_2O为原料,利用NaOH调节溶液的pH值并形成Ni(OH)_2,还原剂采用N_2H_4·H_2O,还原过程中加入晶核引发剂及表面活性剂。采用正交实验表安排实验,对影响镍粉振实密度及粒径的因素进行了极差分析。实验数据表明,溶液中镍的初始浓度对产品质量的影响最大,较优工艺组合条件为:初始Ni~(2+)的浓度1.5mol·L~(-1),NaOH用量为理论量的1.1倍,反应温度80℃,表面活性剂用量为每克镍5mg,晶种添加量为还原剂理论用量的0.1％。新工艺可制备振实密度高达3.0以上、质量中位径为1μm的球形镍粉。     

含有化合物的二元体系活度计算的新方法

利用已知化合物的生成热,对含有化合物的二元系推导了由相图计算活度的公式,提出了活度计算的新方法。用导出公式计算了Al-Ce、Al-La两个二元系在整个浓度范围内的活度系数,并进行了初步分析。     

沙蚕毒系化合物的结构与生物活性关系

用ＭＮＤＯ－ＰＭ３方法对沙蚕毒系化合物二氢沙蚕毒，硫氰酸酯，巴丹，杀虫单及其异构件的几何构型进行了全自由度优化，并计算了其电子结构，讨论了生物活性与几何构型和电了结构的关系。     

O-取代苯基-O-(2-硬脂酰胺基)乙基-N,N-二(2-氯乙基)磷酰胺的合成和生物活性

N-脂肪酰基乙醇胺(NAE)作为植物体内的一种内源物质, 在调节植物生长方面起着重要作用. 为了弥补其分子结构中长的脂肪链所带来的溶解性能以及在植物体内传导性能的缺陷, 我们将N-硬脂酰乙醇胺(NAE18)引入氮芥磷酸酯中, 合成了一系列标题化合物. 在合成工作中发现: 在NAE18与氮芥芳基磷酰氯的反应过程中, 4-二甲氨基吡啶(DMAP)起着关键性的催化作用. 在不加DMAP的相同实验条件下, 反应不能进行. 对所合成的标题化合物进行了植物生长调节和杀菌活性的测定, 初步生测结果表明: 经过结构修饰后, 大多数目标化合物的活性相对NAE18有所增强, 但有关生物活性仍有待进一步研究.