高岭石-硬脂酸插层复合物的制备及结构模型的提出

以张家口高岭土为原料,通过直接插层与取代相结合的方法制备高岭石-硬脂酸插层复合物.利用 X射线粉末衍射、红外光谱、热重及透射电子显微镜对制备产物进行表征.结果表明:硬脂酸插入到高岭石层间,高岭石层间距d₀₀₁值由0.72 nm增加到4.05~4.37 nm,插层率达到86.9%;反应时间和溶液pH值会对高岭石-硬脂酸插层复合物的层间距及插层率产生影响;甲氧基嫁接在高岭石表面,与硬脂酸分子同时存在于高岭石层间.高岭石经甲醇改性后脱羟基温度明显降低,高岭石羟基活性提高;高岭石-硬脂酸插层复合物的稳定温度在160 ℃以下.经过硬脂酸插层改性后的高岭石片层,从边缘开始出现卷曲现象,并且部分长条状片层形成类似埃洛石相的纳米卷;对硬脂酸插层高岭石的作用机理进行分析,结合结构计算,提出高岭石-硬脂酸插层复合物的结构模型,该模型可以解释高岭石-硬脂酸插层复合物在不同条件制备产物层间距变化的原因.     

lixmos2的制备及其摩擦学特性

采用正丁基锂直接插入法制备出不同插层程度的LixMoS2,并考察了插层反应温度、反应物摩尔量比和反应时间等因素对插层效果的影响. 结果发现,控制反应物n-C4H9Li与MoS2的摩尔比为5～9、插层反应温度为30 ℃左右,在机械搅拌下反应36～48 h制得LixMoS2,在水中剥层后能制得不同插层程度的MoS2悬浮液. 采用XRD对该悬浮液中的MoS2颗粒进行了表征. 结果发现,在LixMoS2中的x值越大制得的MoS2衍射峰宽化越严重,晶粒越小,晶形越差. 在四球摩擦磨损试验机考察了不同插层程度的MoS2悬浮液的摩擦学性能. 结果表明,x值在0.618～1.39范围的摩擦系数和磨斑直径均随着x值的变化先减小后增加,在x为0.75左右时,抗磨减摩性能达到最佳.     

高岭石-硬脂酸插层复合物的制备及结构模型的提出

以张家口高岭土为原料,通过直接插层与取代相结合的方法制备高岭石-硬脂酸插层复合物。利用X射线粉末衍射、红外光谱、热重及透射电子显微镜对制备产物进行表征。结果表明:硬脂酸插入到高岭石层间,高岭石层间距d001值由0.72 nm增加到4.05~4.37 nm,插层率达到86.9%;反应时间和溶液p H值会对高岭石-硬脂酸插层复合物的层间距及插层率产生影响;甲氧基嫁接在高岭石表面,与硬脂酸分子同时存在于高岭石层间。高岭石经甲醇改性后脱羟基温度明显降低,高岭石羟基活性提高;高岭石-硬脂酸插层复合物的稳定温度在160℃以下。经过硬脂酸插层改性后的高岭石片层,从边缘开始出现卷曲现象,并且部分长条状片层形成类似埃洛石相的纳米卷;对硬脂酸插层高岭石的作用机理进行分析,结合结构计算,提出高岭石-硬脂酸插层复合物的结构模型,该模型可以解释高岭石-硬脂酸插层复合物在不同条件制备产物层间距变化的原因。     

正丁胺对苯膦酸铜的插层反应研究

分别采用溶液搅拌和超声的方法,研究了有机正丁胺分子对苯膦酸铜的插层反应.对插层复合物进行了红外光谱(IR)、X射线粉末衍射(XRD)和热重分析等测试及结构分析.结果表明,有机正丁胺的插入使得苯膦酸铜的层间距增大.     

不同分子量壳聚糖对蒙脱土插层复合物的影响

于醋酸溶液中通过溶液插层技术将不同分子量的壳聚糖与钠基蒙脱土进行插层复合,制备了系列壳聚糖/蒙脱土插层复合物. 通过XRD、TEM、FTIR测试技术对插层复合物的结构进行了表征. 结果表明,仅通过醋酸溶液处理,残留的HAc就可使MMT层间距由原来的1.3 nm增加至1.55 nm,并使结构规整性提高;降低壳聚糖分子量有利于MMT层间距增大,并出现更多剥离形态的蒙脱土;当壳聚糖分子量为4.1×104时,最大层间距可达2.48 nm,但进一步降低壳聚糖分子量层间距反而略微减小;红外光谱分析表明,插层复合物中壳聚糖与蒙脱土间存在明显的静电作用. TGA分析结果表明,插层复合物中壳聚糖的含量随分子量的降低而增加,残留的醋酸使插层复合物中壳聚糖的热稳定性能下降.     

层状(脯氨酸-N-甲基膦酸-磷酸氢)锆的合成及插层性能研究

以高结晶度制备了层状(脯氨酸-N-甲基膦酸-磷酸氢)锆(α-ZPMPP)晶体(层间距为1.52nm),并研究了其常温下对正丁胺的插层性能,用元素分析、IR、XRD和TG-DSC热分析对α-ZPMPP及其插层复合物进行了表征.结果表明,层状α-ZPMPP具有形成超分子主-客体化合物的插层性能,正丁胺客体分子在主体底物中形成单分子层,并插入α-ZPMPP中,使层间距增大0.45nm,插入的正丁胺可在150～250℃被脱除.     

层状有机/无机杂化物(C_4H_9NH_3)_2NiCl_4的合成与表征(英文)

以NiCl2·6H2O和C4H9NH2·HCl为原料,利用固相合成法成功合成了层状结构的有机/无机杂化物(C4H9NH3)2NiCl4(1);采用X射线粉末衍射仪和红外光谱仪表征了产物1的结构,利用元素分析和热重分析测定了其元素组成和热稳定性.结果表明,杂化物1具有层状结构,层间距为3.220 7nm.     

精氨酸插层氧化锰纳米结构材料的制备和表征

应用氧化法水热合成了Na型层状氧化锰[BirMO(Na)], 通过离子交换反应在0.1 mol/L HCl溶液中Na型层状氧化锰转化成H型层状氧化锰[BirMO(H)]. BirMO(H)在四甲基氢氧化铵[(CH3)4NOH]溶液中搅拌处理7 d后, 剥离生成了MnO2纳米层胶体分散液. 剥离的MnO2纳米层胶体分散液在pH＝4.0～11.0的精氨酸溶液中搅拌2 d, 得到了层间距为1.49 nm的精氨酸插层氧化锰纳米结构材料. 通过XRD, DSC-TGA, SEM, IR及元素分析对合成试样进行了分析表征. 结果表明精氨酸在氧化锰层间的插入量及插入形式与重组溶液的pH值密切相关, 其最大插入量为1.80 mmol/g.     

磷系阻燃剂插层镁铝型水滑石复合物的制备及其在热塑性聚氨酯中的阻燃应用

采用直接的无溶剂制备方法,将3种磷系阻燃剂9,10-二氢-9-氧杂-10-磷杂菲-10-氧化物(DOPO)、聚磷酸铵(APP)和三聚氰胺聚磷酸盐(MPP)分别插层到镁铝型水滑石(MAH)片层中,制备了3种含磷阻燃剂的MAH复合物(DOPO-MAH、APP-MAH和MPP-MAH),并采用模压成型法制备了MAH复合物与热塑性聚氨酯(TPU)的复合材料。采用X射线衍射、扫描电子显微镜和热重分析分别对复合物进行了表征,并且通过锥形量热仪对复合材料进行了表征。结果表明,MAH中MPP的分散性较差,DOPO和APP的分散性较好,并且磷元素分布均匀。MAH的初始层间距为4.11 nm,APP和MPP均在0.5 h时就已完成插层,最终层间距分别缩小到3.93和4.04 nm。DOPO则在0.5 h后完成,但插层后的层间距更小,为3.86 nm。与物理混合物所制得的复合材料相比,(DOPO-MAH-6h)/TPU和(APP-MAH-6h)/TPU的热释放速率峰值分别从669.3 kW/m²降至573.9 kW/m²,从657.7 kW/m²     

聚萘并噁嗪/蒙脱土纳米复合材料的制备与表征

用原位插层反应法地制备了聚萘并嗪 蒙脱土纳米复合材料 .采用X ray衍射 (XRD)及透射电镜(TEM)研究复合材料中蒙脱土硅酸盐片层间距 ,发现硅酸盐片层间距由 1 2 6nm扩增至 5 88nm以上 .同时研究了该复合材料的耐热性 ,并探讨了复合材料的结晶行为