添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索

本文在试验基础上,对添加剂在氧化铈抛光中作用机理—提高氧化铈抛光效率的机理和防止玻璃抛光表面腐蚀的机理作了探索,指出在一定的抛光工艺条件下,每一种添加剂对于一定品位的氧化铈和一定牌号的光学玻璃有一最佳的加入量。     

准球心弧线摆动高速抛光用的高纯氧化铈

本文阐述了准球心弧线摆动高速抛光中与聚氨基甲酸乙酯抛光模相匹配的高纯氧化铈抛光粉经烧制处理后的抛光效率,添加剂的作用以及回收处理。     

PVD改性RB-SiC表面缺陷研究

为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的。试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生。经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7 m～1 m后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生。     

ZK、ZF、ZBaF、LaK光学玻璃的腐蚀与防护

ＺＫ、ＺＦ、ＺＢａＦ、ＬａＫ等光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以后的腐蚀问题,长期以来一直影响着这些光学玻璃零件的加工质量和生产效率。通过对光学玻璃在抛光过程中稳定性课题的研究和生产实验,研制并筛选出比较理想的光学玻璃抛光添加剂;即在这些化学稳定性差的光学玻璃抛光液中,添加适当的ｐＨ值调节剂及表面稳定剂,减少了ＺＫ、ＺＦ、ＺＢａＦ、ＬａＫ等系列化学稳定性差的光学玻璃在抛光过程中的腐蚀问题,显著提高了抛光表面质量和合格率,并进一步提高了光学玻璃零件加工的效率和效益及其工艺技术水平     

玻璃平板光波导及棱镜耦合器的实验

<正> 一、玻璃平板光波导的制备众所周知,平板光波导是由三层电介质构成的,即由折射率为n_f的导波层,折射率为n_s的衬底及折射率为n_c的上包层等三层电介质构成的,如图1所示,其中n_f>n_s≥n_c。作为无源光波导的材料,通常要求它对传导光的吸收损耗小,易于成膜,并且导波层具有高于衬底的折射率。我们选用K9玻璃作衬底材料,BaK7玻璃作导波层材料,利用高频溅射工艺制备了光波导。先将衬底制成2×10×70毫米的样品,并对要成膜的一面仔细地进行光学抛光(要求不     

永磁流变抛光纳米精度非球面技术研究

利用永磁流变抛光技术制造高精度光学元件是一项极具前景的超精密制造技术。对一台五轴联动磁流变数控抛光系统的结构特点、功能特色及关键部件的设计进行了阐述。在此基础上,结合装置开展基础试验,对磁流变抛光过程中的主要控制参量如抛光轮下压量、抛光轮速度等对材料去除特性的影响进行了研究。开展了磁流变抛光对提高工件(K9玻璃)表面粗糙度效果的抛光试验,结果证明该套系统具有良好的磁流变抛光特性,抛光23min后工件表面粗糙度降低到0 6739nm。     

面向高性能摩擦纳米发电机的电介质材料

摩擦纳米发电机(triboelectric nanogenerator, TENG)作为微纳电源或自取能传感器近年来在多领域表现出广阔的应用潜力. TENG的输出性能提升与作为摩擦起电层的电介质材料接触起电特性密切相关.本文首先介绍了TENG及其电介质摩擦起电层的相关基础理论和模型;其次,阐述了TENG电介质材料的选材、改性(表面改性、体改性)和结构设计策略,其中表面改性和体改性涉及表面粗糙度控制、官能团调控、电介质材料介电参数优化,在电介质的结构设计方面,重点介绍了电荷传输层、捕获层、阻挡层的原理及通过多层结构来提高TENG介电性能的典型方法;最后,强调了本领域发展面临的挑战和未来发展趋势,为面向高性能TENG的纳米电介质材料开发提供参考.     

添加剂在固着磨料抛光中的作用

本文通过实验说明采用固着磨料抛光不同玻璃材料的光学零件时,在抛光液(水)中有选择的加入适量添加剂,可使抛光效率提高0.2～1倍多,并能改善零件表面粗糙度.     

电介质及其在经济建设中的重要作用

一、电介质物理的发展简史 人们习惯于把电导为零(绝缘体)或禁带很宽的物质称为电介质.但电介质更确切的定义是在电场作用下发生极化的物质,或者说是靠感应而不是靠传导传递电能的物质. 电介质的研究虽然已有150多年的历史,但系统深入的研究,还是从本世纪开始.这是由于经济建设的需要,工作电压越来越高,到处尖锐地存在着怎样绝缘的问题;由于微波和雷达技术的出现,要求在微波频率下损耗更小的介质作为天线及其它功能元件;激光与极性电介质有很密切的关系,例如铁电体和压电体的电光效应和非线性光学效应,已在激光的研究、发展和应用中起到很重…     

《电介质物理学》——《凝聚态物理学丛书》中又一新书

由方俊鑫、殷之文主编的《电介质物理学》最近与读者见面了,这是《凝聚态物理学丛书》中的又一新书,这是一部历经近十年艰苦奋斗而问世的难得的好书. 有人认为,电介质就是绝缘体,其实这是一种比较经典的认识.自从人类对电的认识和应用开始以后,电介质就相应问世.当时的电介质仅用作为分隔电流的绝缘材料,而经典的电介质物理学就是以绝缘介质的介电常数、损耗、电导和击穿等所谓四大参数为其主要内容的, 30年代以后,随着电子技术、红外、激光、声学及其他许多新技术的出现和应用,电介质已远远不是仅作为绝缘材料了.特别是极性电介质的出现和…     

聚四氟乙烯抛光模的制造和使用

为了加工高精度的平面镜,我们试验了聚四氟乙烯抛光模。本文是我们初次试验的体会。一、概述象平晶、干涉仪平板等高精度的平面镜,长期以来是采用古典的沥青抛光技术,这种方法主要取决于操作者对各项工艺因素运用的熟练程度。一般说来,工艺因素有装夹方法、机床参数和抛光模的制作及使用技术等几个方面。在机床参数合理的前提下,抛光模的制作     

作用在平行板电容器中一片电介质的力

在一些物理学的教科书中,利用虚功原理计算了作用于插入平行板电容器的一片电介质的力.[1],[2]但没有从物理原因上进行分析.这就会产生这样的问题,即垂直方向的电场,怎么会有水平方向的力作用于电介质上?本文通过对于电介质受力的微观机制的分析,计算作用于这片均匀电介质的力.一、电介质受力的微观机制 在电场中的电介质要受到电场作用而极化.在平行板电容器的极板间,插入一片电介质,由于电容器边缘区不均匀电场的作用,电介质中极化的电偶极子排列也是不均匀的.图一是这种情况的示意图. 图一电容器的极板,在z方向宽w,x方向长为L. 在X=X0…     

金刚石车削表面微纳织构的气囊抛光改进

单点金刚石车削技术被广泛应用于光学表面的超精密加工。然而,车削表面固有的周期性残留刀痕结构将增强表面散射效应,恶化元件光学性能。为了抑制散射以获得高质量光学表面,采用气囊抛光技术主动改变车削表面周期性刀痕结构。基于Taguchi正交试验,以表面粗糙度及功率谱密度的改善率为设计指标,分析获得了最优抛光参数。采用该最优参数对一精车表面进行了抛光试验,抛光后表面粗糙度Ra由3.81 nm降到1.42 nm,各空间频率功率谱密度大幅降低,同时表面的衍射条纹消失。试验结果验证了所采用的抛光及相应优化方法的有效性,具有重要的工程应用价值。     

金刚石车削表面微纳织构的气囊抛光改进EI北大核心CSCD

单点金刚石车削技术被广泛应用于光学表面的超精密加工。然而,车削表面固有的周期性残留刀痕结构将增强表面散射效应,恶化元件光学性能。为了抑制散射以获得高质量光学表面,采用气囊抛光技术主动改变车削表面周期性刀痕结构。基于Taguchi正交试验,以表面粗糙度及功率谱密度的改善率为设计指标,分析获得了最优抛光参数。采用该最优参数对一精车表面进行了抛光试验,抛光后表面粗糙度Ra由3.81 nm降到1.42 nm,各空间频率功率谱密度大幅降低,同时表面的衍射条纹消失。试验结果验证了所采用的抛光及相应优化方法的有效性,具有重要的工程应用价值。     

大口径光学元件气囊抛光工具刚度可控性

为保证气囊抛光过程中抛光运动的高稳定性和均匀材料去除率,对气囊抛光非球面过程中气囊工具刚度的可控性进行了研究。通过分析气囊抛光大口径光学元件时工具的受力情况,计算了气囊工具的刚度,并分析了气囊抛光工具刚度对抛光时材料去除的影响及气囊工具刚度的影响因素。设计了气囊工具刚度控制算法并进行模拟试验,仿真结果表明,在刚度标准值根据加工要求设定以后,即可通过调节工件对气囊工具的反作用力,使得气囊抛光大口径光学元件过程中气囊工具刚度可控。     

激光在固体表面上产生有周期性的结构

早在1965年就有人发现,当用一强激光束垂直照射一抛光的半导体表面时,受到损伤的区域可以出现排列很有规则的条纹[1],条纹的间距等于激光的波长,其取向垂直于激光的偏振方向.随后也在金属、电介质等材料中发现刊同样的现象.为了解释这种现象,捉出了许多理论模型.人们首先想到的     

静电场中电介质的极化能

本文通过处于理想平板电容器中的一种电介质原子的极化模型，在经典物理范围内讨论了与电介质中静电场能量有关的问题．特别是关于静电场中电介质的极化能，说明它作为介质中静电场能量的组成部分在微观上的意义．     

基于遗传算法优化光栅辐射特性

光栅是一种应用非常广泛的光学元件。通过优化结构尺寸的方法可以获得同样材料光栅的不同辐射特性。本文以一维微结构金属电介质光栅为例,以8~12μm作为目标波段,通过严格耦合波分析与遗传算法相结合的方法对单组金属电介质光栅和双组金属电介质光栅的结构尺寸和光学常数进行双重优化,找到了硅作为电介质材料时的最优结构尺寸和该结构尺寸下电介质材料的最优光学常数。通过该方法,可以用来调控所有目标波段下的辐射特性,为进一步提高一维微结构光栅辐射特性提供了新的途径。     

气囊式工具抛光新技术

介绍了一种新型的光学加工技术———气囊式抛光。气囊为球形的柔性膜,外表面粘贴抛光模,内部充入低压气体。气囊具有可独立的控制变量:内部的压力、抛光接触区、进动运动、旋转速度。以IRP 200型为例,介绍气囊抛光的原理及其实用效果。研究和试验表明:气囊式抛光是一种实用、经济的高精度非球面抛光技术,有可能成为光学冷加工发展的一个主要方向。     

大型非球面反射镜的柔性光学制造技术

提出了柔性光学制造技术 (FOMT)的概念。介绍了计算机控制小工具抛光 (CCOS)和计算机控制应力盘(CCSL)抛光的技术特点 ;讨论了CCOS在抛光过程中的工艺技术优化方案 ;给出了应力盘变形的数学物理模型及在周边 12个驱动器的作用下应力盘全口径和 80 %口径范围内的变形仿真结果 ;研究了在全口径 φ5 0 0mm盘上的工程实现途径及应力盘与机床CNC的通讯关系以及抛光工艺研究 ;分析了CCOS、应力盘抛光和经典法抛光技术的综合运用 ;探讨了柔性光学制造技术发展的必然趋势。