| 沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘保亭,武德起,闫正,乔晓东,赵庆勋,王英龙. 沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(2): 276-279 |
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| 作者姓名： | 刘保亭 武德起 闫正 乔晓东 赵庆勋 王英龙 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.50572021)，国家人事部留学人员择优资助，河北省自然科学基金(E2005000130)，河北大学人才引进基金(B0406030) |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射法在(001)SrTiO3 基片上制备了LaNiO3氧化物薄膜,应用X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等技术系统研究了沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响.结果表明在较低的生长温度和较宽的温度范围内(250～400℃)都能得到外延LaNiO3薄膜.输运性质的测量结果表明在其它条件不变的情况下,250℃温度下生长的LaNiO3薄膜具有最高的电导率.
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| 关 键 词： | LaNiO3 外延薄膜 磁控溅射 |
| 文章编号： | 1000-985X（2006）02-0276-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-16 |
| 修稿时间： | 2005-08-16 |
Impacts of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of LaNiO3 Films |
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| LIU Bao-ting,WU De-qi,YAN Zheng,QIAO Xiao-dong,ZHAO Qing-xun,WANG Ying-long. Impacts of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of LaNiO3 Films[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(2): 276-279 |
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| Authors: | LIU Bao-ting WU De-qi YAN Zheng QIAO Xiao-dong ZHAO Qing-xun WANG Ying-long |
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| Affiliation: | College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | LaNiO_3 epitaxial film magnetron sputtering |
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