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| 金属氧化物薄膜在中波红外光谱区内光学常数色散特性 | |
| 作者姓名： | 刘华松 季一勤 张锋 刘丹丹 冷健 王利栓 姜玉刚 陈德应 焦宏飞 鲍刚华 程鑫彬 |
| 作者单位： | 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室;哈尔滨工业大学光电子技术研究所;同济大学物理科学与工程学院精密光学工程技术研究所; |
| 基金项目： | 国家自然科学重点基金(61235011);国家重大科学仪器专项(2012YQ040164);天津市自然科学基金(13JCYBJC17300);天津市自然科学青年基金(14JCQNJC02400,12JCQNIC01200) |
| 摘 要： | 基于金属氧化物薄膜材料在中波红外波段应用的需求,研究了含水状态的TiO2、HfO2、Ta2O5和Y2O34种金属氧化物薄膜在中波红外波段内(2.5~5μm)光学常数的色散特性。利用电子束蒸发沉积技术,在超光滑的硅表面制备了4种氧化物薄膜,基于洛仑兹振子介电常数色散模型,通过透射率光谱反演计算了4种氧化物薄膜的光学常数。研究结果表明:4种氧化物均有少量的水分子、羟基,水含量从少到多的薄膜依次为TiO2、HfO2、Ta2O5和Y2O3,在远离水吸收的位置,消光系数从小到大的薄膜分别为TiO2、HfO2、Ta2O5和Y2O3;在电子束蒸发沉积工艺条件下,为了降低水的影响,TiO2和HfO2是中红外波段较为理想的金属氧化物薄膜材料。 |
| 关 键 词： | 材料 金属氧化物薄膜 水分子 羟基 洛仑兹振子模型 光学常数 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |