基于光孔阵列的集成成像三维显示方法

集成成像较小的再现深度一直都限制着集成成像的发展和应用,针对此问题提出了一种增大集成成像再现深度的方法。该方法在微透镜阵列与显示屏之间附加一个光孔阵列,利用光孔阵列限制显示屏上像素发出光线的发散角,从而有效地增大集成成像的再现深度。对集成成像的再现原理进行了深入分析,讨论了光孔直径与集成成像再现深度的关系。采用ASAP光学模拟软件对所提方法和传统方法进行了模拟对比实验,实验结果显示当光孔直径占透镜元节距的64%时,所提方法的再现深度是传统集成成像再现深度的1.5倍,实验结果验证了理论推导的正确性。