| 全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案 |
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| 引用本文： | 余和军,余金中,陈绍武.全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案[J].半导体学报,2006,27(11). |
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| 作者姓名： | 余和军 余金中 陈绍武 |
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| 摘 要： | 以光子晶体Fabry-Perot腔为例,提出了全电子束光刻制作光子晶体波导器件的解决方案.曝光光子晶体区域时采用较小的曝光步长,同时引入额外的邻近效应补偿本征邻近效应,从而获得高质量的掩模图形.曝光较长的输入、输出波导时,采用较大的曝光步长以提高电子束扫描速度,同时在波导的写场(write-field)过渡区引入一个锥形波导以减小写场拼接误差对光传输效率的影响.实验结果证明,这种方法既能保持小孔制作需要的高精度,也能很大程度上提高光刻效率.
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| 关 键 词： | 光子晶体 电子束光刻 写场拼接 邻近效应校正 photonic crystal e-beam lithography stitching problem proximity effect correction 电子束光刻 制造 二维光子晶体波导 器件 方案 Devices Waveguide Photonic Crystal Patterning Process dose however efficiency influence stitching error joint improve scan speed |
An All-E-Beam Lithography Process for the Patterning of 2D Photonic Crystal Waveguide Devices |
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| Yu Hejun,Yu Jinzhong,Chen Shaowu.An All-E-Beam Lithography Process for the Patterning of 2D Photonic Crystal Waveguide Devices[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(11). |
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| Authors: | Yu Hejun Yu Jinzhong Chen Shaowu |
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