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凹槽栅场板结构的AlGaN/GaN HEMT特性分析
引用本文:陈辰,陈堂胜,任春江,薛舫时.凹槽栅场板结构的AlGaN/GaN HEMT特性分析[J].半导体学报,2007,28(Z1):407-410.
作者姓名:陈辰  陈堂胜  任春江  薛舫时
作者单位:陈辰(南京大学物理系,南京,210008;单片集成电路和模块国家级重点实验室,南京,210016);陈堂胜(单片集成电路和模块国家级重点实验室,南京,210016);任春江(单片集成电路和模块国家级重点实验室,南京,210016);薛舫时(单片集成电路和模块国家级重点实验室,南京,210016)
摘    要:研究了无场调制板结构、有场调制板结构但无凹槽栅、结合场调制板结构和凹槽栅工艺三种AlGaN/GaN HEMT的动态I-V特性和微波特性,认为场调制板结构和凹槽栅工艺可以有效改善AlGaN/GaN HEMT器件沟道内电场分布,显著减小电流崩塌现象,提高器件的微波输出功率特性.利用此技术研制的1mm栅宽AlGaN/GaNHEMT输出功率大于10W.

关 键 词:AlGaN/GaN  高电子迁移率晶体管  场板  凹槽栅  动态测试
文章编号:0253-4177(2007)S0-0407-04
修稿时间:2006年11月16

Characteristic of the Recessed-Gate AlGaN/GaN HEMT with a Field Plate
Chen Chen,Chen Tangsheng,Ren Chunjiang,Xue Fangshi.Characteristic of the Recessed-Gate AlGaN/GaN HEMT with a Field Plate[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(Z1):407-410.
Authors:Chen Chen  Chen Tangsheng  Ren Chunjiang  Xue Fangshi
Abstract:
Keywords:
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