| 磁阱等离子体源离子注入研究 |
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| 引用本文： | 李家全,程仕清.磁阱等离子体源离子注入研究[J].核聚变与等离子体物理,1991,11(2):106-110. |
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| 作者姓名： | 李家全 程仕清 |
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| 作者单位： | 核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院 四川，成都，四川，成都，四川，成都，四川，成都，四川，成都，四川，成都 |
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| 摘 要： | 本文描述在磁阱装置中利用旋转等离子体的概念给浸泡于等离子体中的样品施加直流高压的实验工作,工件电压高达-22kV,文中还对相关物理问题进行了定性分析。
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| 关 键 词： | 磁阱 等离子体源 离子注入 |
PLASMA SOURCE ION IMPLANTATION (PSIl) IN A MAGNETIC WELL CONFIGURATION |
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| I Jiaquan CHEN Shiqing GUAN Weishu DUAN Shuyun HAO Shuli GU Biao.PLASMA SOURCE ION IMPLANTATION (PSIl) IN A MAGNETIC WELL CONFIGURATION[J].Nuclear Fusion and Plasma Physics,1991,11(2):106-110. |
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| Authors: | I Jiaquan CHEN Shiqing GUAN Weishu DUAN Shuyun HAO Shuli GU Biao |
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| Abstract: | A rotational plasma technique was used for investigating ion implantation of material. In the process of PSII, targets were immersed in a plasma and were DC-biased to high negative volage (22kV in our experiments). The mechanism related to this technique and experimental results are presented. |
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| Keywords: | Plasma source ion implantation Magnetic well |
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