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簿膜结构分析中的低角X射线衍射方法
引用本文:邵建达,范正修,殷功杰,袁利祥. 簿膜结构分析中的低角X射线衍射方法[J]. 物理学报, 1994, 43(6): 958-965
作者姓名:邵建达  范正修  殷功杰  袁利祥
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所;中国科学院上海光学精密机械研究所;中国科学院上海光学精密机械研究所;中国科学院上海光学精密机械研究所
摘    要:利用带折射修正的布喇格衍射定律和薄膜光学理论分析了低角X射线衍射谱中出现的一系列现象,导出了多层膜周期厚度和周期中不同材料间的配比率的计算公式,对多层膜的低角X射线衍射谱中主峰间的次峰现象作出了解释,并对低角X射线衍射测量单层膜厚度进行分析,给出了精确的测厚公式。


SMALL-ANGLE X-RAY DIFFRACTION IN ANALYSES OF THE STRUCTURE OF COATINGS
SHAO JIAN-DA,FAN ZHENG-XIU,YIN GONG-JIE and YUAN LI-XIANG. SMALL-ANGLE X-RAY DIFFRACTION IN ANALYSES OF THE STRUCTURE OF COATINGS[J]. Acta Physica Sinica, 1994, 43(6): 958-965
Authors:SHAO JIAN-DA  FAN ZHENG-XIU  YIN GONG-JIE  YUAN LI-XIANG
Abstract:The period thickness mean refraction corrected factor and the ratio between two difference materials in a period can be deduced from the Bragg equation with refraction correction. Based on this Bragg's law and theory of optical thin film, the formula introduced in this paper have been verified in theory and experiment with short-period Mo/Si multilayers.
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