结晶β-C3N4薄膜的制备和特性研究 |
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引用本文: | 陈光华,张阳,朱鹤孙,杨宁.结晶β-C3N4薄膜的制备和特性研究[J].人工晶体学报,2000,29(3):224-228. |
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作者姓名: | 陈光华 张阳 朱鹤孙 杨宁 |
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作者单位: | 北京工业大学,材料科学与工程学院,北京100022;北京理工大学,材料科学研究中心,北京100081 |
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基金项目: | 中国科学院资助项目,北京市自然科学基金 |
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摘 要: | 用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积(ECR CVD)法, 在单晶硅(100)衬底上沉积生长出了具有{221}结构特性的连续的结晶态β-C3N4薄膜.使用扫描电镜(SEM)观测了沉积薄膜的形态;采用X射线光电子光谱(XPS),X射线衍射(XRD)和拉曼散射表征薄膜的结构.研究表明,沉积结晶态β- C3N4薄膜具有{221}结构特性.
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关 键 词: | β-C3N4薄膜 化学汽相沉积 电子回旋共振等离子体 薄膜结构 |
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