薄膜光学 制膜技术与装置

O484．1 2005010443 热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响=Thermal annealing effect on characteristics of surface morphology and ellipsometric of zinc oxide film刊,中]／刘磁辉(中国科学技术大学物理系．安徽,合肥(230026))．林碧霞…∥发光学报．-2004,25(2)．-151-155 利用原子力显微镜(AFM)和椭偏仪对溅射制备的硅基ZnO薄膜的热退火表面形貌与椭偏特性进行了研究。