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BSRF上同步辐射浓度光刻的实验研究
作者姓名:
彭良强 作福廷 等
摘 要:
大结构深度和高深宽比是同步辐射深度光刻的突出优点。提出采用现有掩模,进行多次曝光、显影的方法,实验获得厚2.2mm的胶结构。系列研究掩模、光刻胶、基底、光谱和光强对深宽比的影响,实验获得深宽比104的胶结构。
关 键 词:
BSRF 实验研究 同步辐射深度光刻 超深结构 高深宽比 掩膜 曝光
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