首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

BSRF上同步辐射浓度光刻的实验研究
作者姓名:彭良强 作福廷 等
摘    要:大结构深度和高深宽比是同步辐射深度光刻的突出优点。提出采用现有掩模,进行多次曝光、显影的方法,实验获得厚2.2mm的胶结构。系列研究掩模、光刻胶、基底、光谱和光强对深宽比的影响,实验获得深宽比104的胶结构。

关 键 词:BSRF 实验研究 同步辐射深度光刻 超深结构 高深宽比 掩膜 曝光
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号