|
|||||
|
|
| 用射频溅射方法制备的多晶ZnO薄膜的光响应与其结构变化 | |
| 作者姓名： | 张德恒 D.E.Brode |
| 作者单位： | (1)DepartmentofPhysics,UniversityofcjWaterloo,Waterloo,Ontario,Canada,N2L3G1; (2)山东大学物理系,济南250100 |
| 摘 要： | 用射频溅射方法在较高氧压下沉积的多晶的ZnO薄膜,其光响应主要由两部分组成:第一部分来源于膜内晶粒界面所吸附氧原子的光脱附,该部分光响应可使膜的电导率增加两个数量级且响应速度较快;第二部分来源于薄膜表面所吸附氧原子的光脱附,此光响应可使膜的电导率增加4一5个数量级,但响应速度非常缓慢.两部分光响应都来自薄膜的结构变化,膜的结构变化与膜所处环境中气体的种类,压强以及膜的温度有关.关键词： |
| 关 键 词： | 氧化锌薄膜 光响应 射频溅射 多晶 薄膜 |
| 收稿时间： | 1994-05-20 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《物理学报》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《物理学报》下载免费的PDF全文 | |