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| 磁控溅射Fe/Mo多层膜的巨磁电阻及层间耦合 | |
| 引用本文： | 阎明朗,王亦中,赖武彦.磁控溅射Fe/Mo多层膜的巨磁电阻及层间耦合[J].物理学报,1995,44(9):1504-1508. |
| 作者姓名： | 阎明朗 王亦中 赖武彦 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所,北京100080 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;;磁学国家重点实验室资助 |
| 摘 要： | 研究了DC/RF磁控溅射Fe/Mo多层膜的磁电阻特性.在反铁磁性耦合的样品中,观察到了磁电阻比率约为12%的巨磁电阻效应.当Mo层厚度改变时,还观察到了周期约为1.0—1.2nm的层间耦合振荡.另外,F/Mo多层膜的磁电阻比率不仅随Mo层厚度改变出现振荡,而且与Fe层厚度的改变也有着很强的依赖关系.
关键词： |
| 关 键 词： | 电阻 铁钼多层膜 巨磁电阻 磁控溅射 层间耦合 |
| 收稿时间： | 1994-05-13 |
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