| 氮离子注入SiO2单晶磨损机理的SEM研究 |
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| 引用本文： | 徐洮,薛群基,田军.氮离子注入SiO2单晶磨损机理的SEM研究[J].摩擦学学报,1999,19(4):289-293. |
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| 作者姓名： | 徐洮 薛群基 田军 |
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| 作者单位： | 中国科学院,兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目，59702001， |
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| 摘 要： | 利用氮离子注入技术改善ＳｉＯ２昌表面的摩擦磨损性能，并用扫描电子显微镜研究了离子注入前、后的ＳｉＯ２单昌在干摩擦条件下与Ｓｉ３Ｎ４球对摩时的磨损机理，研究结果表明，经过１＊１０＾１７Ｎ＾＋／剂量的氮离子注入后，ＳｉＯ２单昌表面的耐磨性能比注入前提高了近４个数量级，氮离子注入使ＳｉＯ２单晶表层形成ＳｉＯ２微晶态与非晶态共存混合态结构，其具有良好的抗塑变和塑性剪切能力，从而使ＳｉＯ２单晶的抗磨性能得到
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| 关 键 词： | 氮离子注入 SiO2单晶 磨损机理 |
Investigation of the Wear Mechanism of N+Ion Implanted Single-crystal SiO2 by SEM |
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| XU Tao,XUE Qun-ji,TIAN Jun.Investigation of the Wear Mechanism of N+Ion Implanted Single-crystal SiO2 by SEM[J].Tribology,1999,19(4):289-293. |
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| Authors: | XU Tao XUE Qun-ji TIAN Jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SEM |
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