| 全息光栅掩模应力控制研究 |
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| 引用本文： | 陈南曙,黄元申,张大伟. 全息光栅掩模应力控制研究[J]. 光学与光电技术, 2008, 6(6): 58-60 |
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| 作者姓名： | 陈南曙 黄元申 张大伟 |
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| 作者单位： | 上海理工大学光学与电子信息学院,上海,200093 |
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| 基金项目： | 上海市重点实验室验山计划(05DZ22016)资助项目;上海市科委(07DZ22026)资助项目;上海市教委 |
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| 摘 要： | 通过干涉法并应用Stoney公式计算的结果，对SiO2基底上光刻胶薄膜的应力进行了研究。采用干涉显微镜在同一样品、不同直径上多点测量的方法，初步得出光刻胶薄膜膜厚均匀性的分布规律。发现在匀胶转速相同的前提下，光刻胶薄膜应力值随加速度的降低而减小，光刻胶薄膜的均匀性随加速度的增加而变好。在4000rpm的低转速时，光刻胶薄膜样品的膜厚均匀性好。因此，在全息光栅匀胶工艺中，要选择适当的转速的加速度，以得到应力较小和均匀性较好的光刻胶薄膜。
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| 关 键 词： | 全息光栅 薄膜应力 Stoney公式 |
| 收稿时间： | 2008-04-10 |
Controlling of Holographic Grating Mask Stress |
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| CHEN Nan-shu,HUANG Yuan-shen,ZHANG Da-wei. Controlling of Holographic Grating Mask Stress[J]. optics&optoelectronic technology, 2008, 6(6): 58-60 |
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| Authors: | CHEN Nan-shu HUANG Yuan-shen ZHANG Da-wei |
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| Affiliation: | CHEN Nan-shu HUANG Yuan-shen ZHANG Da-wei(Optical & Electronic Information Engineering College,University of Shanghai for Science , Technology,Shanghai 200093,China) |
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| Abstract: | By using the interference method and the calculated result of Stoney formula,the stress of photoresist thin film spinned on the SiO2 substrate was researched.The uniformity of film thickness was studied using microscope.With varying acceleration,rotating speed and spinning time,the spinning experiment was done.The results show that the residual stress of photoresist thin film decreases,while the uniformity of thin film thickness gets to the bad,with the reducing of acceleration at the same rotational speed.... |
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| Keywords: | holographic grating thin film stress stoney formula |
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