| 沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 |
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| 作者姓名： | 樊志琴 闫书霞 姚宁 鲁占灵 杨仕娥 马丙现 张兵临 |
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| 作者单位： | 1.河南工业大学, 理学院,河南 郑州,450052;2.郑州大学, 材料物理教育部重点实验室, 河南, 郑州, 450052 |
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| 摘 要： | 利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征,讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100sccm)、生长时间(10min)、反应室压力不变,当甲烷流量为8sccm、温度为700~800℃时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀。
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| 关 键 词： | 碳纳米管 微波等离子体化学气相沉积 场发射 拉曼光谱 |
| 文章编号： | 1000-7032（2006）01-0129-05 |
| 收稿时间： | 2004-08-22 |
| 修稿时间： | 2005-01-14 |
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