| 投影光刻机光学系统的总体设计 |
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| 引用本文： | 王之江,邹海兴. 投影光刻机光学系统的总体设计[J]. 光学学报, 1987, 0(2) |
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| 作者姓名： | 王之江 邹海兴 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所(王之江)，中国科学院上海光学精密机械研究所(邹海兴) |
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| 摘 要： | 本文从投影光刻机的图形传递要求出发,导出投影光刻机各主要光学系统的具体要求,并讨论这些参数确定的局限性。
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| 关 键 词： | 扫描投影光刻机 光学系统 |
General consideration of optical system in the projection aligner |
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| WANG ZHIJIANG AND ZOU HAIXING. General consideration of optical system in the projection aligner[J]. Acta Optica Sinica, 1987, 0(2) |
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| Authors: | WANG ZHIJIANG AND ZOU HAIXING |
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| Abstract: | The specific parameters of main optical system are deduced from the requirement of pattern transfer for the projection aligner. The limit of these parameters is discussed. |
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| Keywords: | scan projection aligner optical system |
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