平面微透镜阵列的叠栅放大理论和实验研究 |
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作者姓名: | 张睿 曹从军 |
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作者单位: | 西安理工大学印刷包装与数字媒体学院,陕西西安,710048;西安理工大学印刷包装与数字媒体学院,陕西西安,710048 |
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基金项目: | 广东省科技厅产学研重大合作项目 |
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摘 要: | 平面微透镜阵列与匹配的微图案阵列叠合时,会产生叠栅效应,在微透镜阵列立体防伪技术和高精度测量方面具有潜在的应用价值。基于游标叠栅效应原理建立了叠栅图案的放大倍数和方向与微图案阵列层、平面微透镜阵列层矢量之间的关系式,即叠栅图案相对于微图案的放大倍数约等于微透镜阵列周期矢量与平面微透镜阵列、微图案阵列周期矢量差的比值,该公式能够预测微图案映射的位置和大小。采用孔径边长为0.3 mm、周期为0.315 mm的方形孔径平面微透镜阵列与不同周期、角度的微图案贴合进行验证,叠栅图案的位置、大小的实验结果与理论预测一致。
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关 键 词: | 光学器件 平面微透镜阵列 叠栅图案 周期 放大倍率 |
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