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80MeV电子打靶次级中子产额和角分布的测量
引用本文:吴靖民,李建平,雷传蘅,刘列夫.80MeV电子打靶次级中子产额和角分布的测量[J].中国物理 C,1987,11(4):433-436.
作者姓名:吴靖民  李建平  雷传蘅  刘列夫
作者单位:中国科学院高能物理研究所,中国科学院高能物理研究所,中国科学院高能物理研究所,中国科学院高能物理研究所
摘    要:本实验采用包有慢化体的铟活化探测器测量80MeV电子打铅厚靶后次级中子的产额和角分布. 测得次级中子按各向同性分布, 中子产额为(2.20±0.13)×1012n/s?kW, 与理论计算结果相符.

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