|
|||||
|
|
| 基于Taurus Workbench的亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化 | |
| 引用本文： | 徐永勋,李惠军.基于Taurus Workbench的亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化[J].微电子学,2003,33(3):196-199. |
| 作者姓名： | 徐永勋 李惠军 |
| 作者单位： | 山东大学,信息科学与工程学院,山东,济南,250100 |
| 摘 要： | 简要介绍了集成电路虚拟工厂系统Taurus Workbench。对亚微米n沟MOS工艺的特点进行了分析。在Taurus Workbench环境下进行亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化，优化结果印证了新工艺条件对器件性能的改善。 |
| 关 键 词： | 集成电路 虚拟工厂 亚微米器件 MOS工艺 工艺优化 n沟MOS器件 TaurusWorkbench |
| 文章编号： | 1004-3365(2003)03-0196-04 |
| 修稿时间： | 2002年11月14 |
Optimization of Key Process Parameters for Submicron n-Channel MOS Transistors Based on Taurus Workbench |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | Integrated circuit Virtual factory Submicron device MOS process Process optimization |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |