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基于支持向量机及遗传算法的光刻热点检测
引用本文:曹葵康,沈海斌,杨祎巍.基于支持向量机及遗传算法的光刻热点检测[J].浙江大学学报(理学版),2011,38(1):41-45.
作者姓名:曹葵康  沈海斌  杨祎巍
作者单位:浙江大学,超大规模集成电路设计研究所,浙江,杭州,310027
摘    要:提出一种基于支持向量机(SVM)及遗传算法(GA)的集成电路版图光刻热点检测方法.首先对版图样本进行离散余弦变换(DCT)以提取样本的频域特征,然后基于这些样本训练SVM分类器以实现对光刻热点的检测.为了提高光刻热点检测的精度及效率,采用遗传算法(GA)对频域特征进行选择,并同时优化SVM参数.实验结果表明,基于SVM及版图频域特征并结合遗传算法进行优化的光刻热点检测方法可以有效提高版图光刻热点的检测精度.

关 键 词:可制造性设计  光刻热点  离散余弦变换  支持向量机  遗传算法

Lithographic hotspot detection based on SVM and genetic algorithm
CAO Kui-kang,SHEN Hai-bin,YANG Yi-wei.Lithographic hotspot detection based on SVM and genetic algorithm[J].Journal of Zhejiang University(Sciences Edition),2011,38(1):41-45.
Authors:CAO Kui-kang  SHEN Hai-bin  YANG Yi-wei
Institution:CAO Kui-kang,SHEN Hai-bin,YANG Yi-wei(Institute of VLSI Design,Zhejiang University,Hangzhou 310027,China)
Abstract:A lithography hotspot detection method based on support vector machine(SVM) and genetic algorithm(GA) is proposed.Frequency domain features of integrated circuit(IC) layout samples are first extracted with discrete cosine transformation.Then SVM classifiers are trained with the layout samples so that it can be used for hotspot detection.To improve the precision and efficiency of this method,genetic algorithm is used for feature selection and SVM parameter optimization.Experiment results show that the propos...
Keywords:design for manufacturability(DFM)  lithography hotspot  discrete cosine transform(DCT)  support vector machine(SVM)  genetic algorithm(GA)  
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