| 基于最优化思想的磁流变抛光驻留时间算法 |
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| 引用本文： | 张云飞,王洋,王亚军,何建国,吉方.基于最优化思想的磁流变抛光驻留时间算法[J].应用光学,2010,31(4). |
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| 作者姓名： | 张云飞 王洋 王亚军 何建国 吉方 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院,机械制造工艺研究所,四川,绵阳,621900 |
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| 摘 要： | 基于最优化思想研究磁流变抛光驻留时间算法。将驻留时间反卷积运算变换成矩阵运算,以实际加工要求为约束条件,建立关于驻留时间的最优化数学模型,利用最小二乘逼近和最佳一致逼近数学解法器对优化模型进行数值求解。仿真结果显示:该算法收敛幅度大,计算效率较高,所求解满足数控加工要求。在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验,对有效口径为50 mm的圆形平面工件,经过4.7min抛光,PV值从0.191λ降至0.087λ,收敛54.5%,RMS值从0.041λ降至0.010λ,收敛75.6%。
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| 关 键 词： | 磁流变抛光 驻留时间算法 反卷积 最优化数学模型 |
Dwell time algorithm based on optimization theory for magnetorheological finishing |
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| ZHANG Yun-fei,WANG Yang,WANG Ya-jun,HE Jian-guo,JI Fang.Dwell time algorithm based on optimization theory for magnetorheological finishing[J].Journal of Applied Optics,2010,31(4). |
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| Authors: | ZHANG Yun-fei WANG Yang WANG Ya-jun HE Jian-guo JI Fang |
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