| 光溅射镀膜均匀性的优化模拟 |
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| 引用本文： | 王晟,叶景峰,刘晶儒,白婷,叶锡生,王立君.光溅射镀膜均匀性的优化模拟[J].光子学报,2010,39(9). |
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| 作者姓名： | 王晟 叶景峰 刘晶儒 白婷 叶锡生 王立君 |
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| 作者单位： | 西北核技术研究所,西安,710024 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划804主题军口资助 |
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| 摘 要： | 为了改善脉冲激光溅射沉积大面积薄膜的均匀性,发展了基片离轴旋转的扫描技术.根据基片离轴旋转的基本原理和等离子体羽空间余弦分布规律,建立了径向膜厚分布公式.数值模拟了各种因素对基片离轴旋转扫描沉积薄膜均匀性的影响.分析表明,优化粒子束中心与基片中心偏置距离、溅射点与基片的距离是改善基片离轴旋转扫描镀膜均匀性的主要途径.同时也考虑了电机转速、镀膜时间和激光重频的影响.通过参量优化,当均匀度要求在95%时,计算得到薄膜的最大半径超过40mm.
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| 关 键 词： | 薄膜 基片离轴旋转扫描 均匀性 脉冲激光镀膜 |
Optimal Simulation for the Thickness Uniformity of the Film Deposited by Pulse Laser Sputtering |
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| WANG Sheng,YE Jing-feng,LIU Jing-ru,BAI Ting,YE Xi-sheng,WANG Li-jun.Optimal Simulation for the Thickness Uniformity of the Film Deposited by Pulse Laser Sputtering[J].Acta Photonica Sinica,2010,39(9). |
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| Authors: | WANG Sheng YE Jing-feng LIU Jing-ru BAI Ting YE Xi-sheng WANG Li-jun |
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