| 大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计 |
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| 引用本文： | 葛嫏,林永水,石宗宝,王思年,吴淦淦. 大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计[J]. 福州大学学报(自然科学版), 1995, 0(6): 66-69 |
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| 作者姓名： | 葛嫏 林永水 石宗宝 王思年 吴淦淦 |
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| 作者单位： | 福州大学机械工程系 |
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| 摘 要： | 论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５１μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
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| 关 键 词： | 液晶显示面版 光刻机 工作台 曝光间隙 掩模 基片 |
Design of a New Type of Working Table of Photolithographic Equipment for the Largesized Liquid Crystal Panel |
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| GeLang,LinYongshui,ShiZhongbao,WangSiliang,WuGangan. Design of a New Type of Working Table of Photolithographic Equipment for the Largesized Liquid Crystal Panel[J]. Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition), 1995, 0(6): 66-69 |
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| Authors: | GeLang LinYongshui ShiZhongbao WangSiliang WuGangan |
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| Affiliation: | GeLang; LinYongshui; ShiZhongbao; WangSiliang; WuGangan(Department of Mechanical Engineering, Fuzhou University, Fuzhou, 350002) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | liquid crystal display panel photolithographic equipment working table exposing clearance mask plate substrate |
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