| 光刻机双面对准精度测量系统 |
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| 引用本文： | 李霖,贾亚飞,张云鹏,杨建章. 光刻机双面对准精度测量系统[J]. 电子工业专用设备, 2015, 0(3) |
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| 作者姓名： | 李霖 贾亚飞 张云鹏 杨建章 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,100176 |
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| 摘 要： | 双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标，介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统，并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理，对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。
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| 关 键 词： | 测试测量技术 光刻机 双面对准精度 双面对准精度测量系统 |
The Measurement Means and Equipment on Double Side Aligning Precision of the Mask Aligner |
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| LI Lin,JIA Yafei,ZHANG Yunpeng,YANG Jianzhang. The Measurement Means and Equipment on Double Side Aligning Precision of the Mask Aligner[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2015, 0(3) |
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| Authors: | LI Lin JIA Yafei ZHANG Yunpeng YANG Jianzhang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | T est and m easurem ent technology M ask aligner D ouble side aligning precision M easurem ent system on double side aligning precision |
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