2.06μm激光偏振膜设计与工艺方法 |
| |
引用本文: | 张永久,刘连泽,张阔,岳威,崔铖.2.06μm激光偏振膜设计与工艺方法[J].红外,2019,40(10):14-19. |
| |
作者姓名: | 张永久 刘连泽 张阔 岳威 崔铖 |
| |
作者单位: | 华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015 |
| |
摘 要: | 介绍了近红外固体激光器中2.06 μm激光偏振膜的用途、设计与制备方法。基于薄膜光学的基本理论以及三种不同膜系结构的对比,确定了初始膜系结构。讨论了薄膜选材、通带波纹压缩、工艺制备等相关技术问题。利用计算机优化软件对膜系结构进行了反复优化。采用电子束真空蒸镀和离子源辅助沉积工艺完成了偏振膜的制备,并对其进行了光谱检测。然后根据测试结果对制备过程中的相关参数进行了优化,最终制备出了光学性能优异、膜层吸收少、均匀性好、稳定性高的激光偏振膜。
|
关 键 词: | 偏振膜 膜系设计 离子源辅助沉积 光谱检测 |
收稿时间: | 2019/9/4 0:00:00 |
修稿时间: | 2019/9/11 0:00:00 |
本文献已被 万方数据 等数据库收录! |
| 点击此处可从《红外》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《红外》下载免费的PDF全文 |
|