首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

2.06μm激光偏振膜设计与工艺方法
引用本文:张永久,刘连泽,张阔,岳威,崔铖.2.06μm激光偏振膜设计与工艺方法[J].红外,2019,40(10):14-19.
作者姓名:张永久  刘连泽  张阔  岳威  崔铖
作者单位:华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015;华北光电技术研究所,北京 100015
摘    要:介绍了近红外固体激光器中2.06 μm激光偏振膜的用途、设计与制备方法。基于薄膜光学的基本理论以及三种不同膜系结构的对比,确定了初始膜系结构。讨论了薄膜选材、通带波纹压缩、工艺制备等相关技术问题。利用计算机优化软件对膜系结构进行了反复优化。采用电子束真空蒸镀和离子源辅助沉积工艺完成了偏振膜的制备,并对其进行了光谱检测。然后根据测试结果对制备过程中的相关参数进行了优化,最终制备出了光学性能优异、膜层吸收少、均匀性好、稳定性高的激光偏振膜。

关 键 词:偏振膜  膜系设计  离子源辅助沉积  光谱检测
收稿时间:2019/9/4 0:00:00
修稿时间:2019/9/11 0:00:00
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《红外》浏览原始摘要信息
点击此处可从《红外》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号