首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

多孔硅成核的电化学研究
引用本文:李志全,乔淑欣,张乐欣,蔡亚楠,阎利娟. 多孔硅成核的电化学研究[J]. 化学通报, 2006, 69(2): 136-139
作者姓名:李志全  乔淑欣  张乐欣  蔡亚楠  阎利娟
作者单位:燕山大学仪器科学与工程系,秦皇岛,066004;燕山大学材料科学与工程学院亚稳材料制备与科学国家重点实验室,秦皇岛,066004
摘    要:将p型单晶硅在HF溶液中进行阳极电化学腐蚀制备出孔隙率约为30%~85%、直径为2~30nm不等的多孔硅,用原子力显微镜(AFM)观察其表面形貌。采用电化学工作站(CHI660A)监测p型硅电极在不同浓度HF溶液中的电流-电压特性,记录恒电流情况下硅电极的电压变化。这些曲线可从精确反映多孔硅形成的早期成核过程。将这些电化学特性曲线在同一坐标轴下显示,得出多孔硅的电化学成核机理。

关 键 词:多孔硅  原子力显微镜  电流-电压特性  恒电流分析  成核机理
收稿时间:2005-04-26
修稿时间:2005-04-262005-09-05

Studies on Electrochemical Nucleation Processes of Porous Silicon
Li Zhiquan,Qiao Shuxin,Zhang Lexin,Cai Yanan,Yan Lijuan. Studies on Electrochemical Nucleation Processes of Porous Silicon[J]. Chemistry, 2006, 69(2): 136-139
Authors:Li Zhiquan  Qiao Shuxin  Zhang Lexin  Cai Yanan  Yan Lijuan
Affiliation:College of Electrical Engineering, State Key Laboratory on Semi-stable Materials Fabrication Techniques and Science in College of Materials Science and Engineering, Yanshan UniverSity Qinhuangdao 066004
Abstract:
Keywords:Porous silicon   AFM   I-V characterization   Galvanostatic analysis   Electrochemical nucleation regularities  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号