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ECR-PECVD制备Si3N4薄膜沉积工艺的研究
引用本文:陈俊芳,吴先球,王德秋,丁振峰,任兆杏.ECR-PECVD制备Si3N4薄膜沉积工艺的研究[J].物理学报,1999(7).
作者姓名:陈俊芳  吴先球  王德秋  丁振峰  任兆杏
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