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ZnO:Al透明导电薄膜的制备及其特性分析
引用本文:徐艺滨,杜国同,刘维峰,杨天鹏,王新胜. ZnO:Al透明导电薄膜的制备及其特性分析[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(3): 569-572
作者姓名:徐艺滨  杜国同  刘维峰  杨天鹏  王新胜
作者单位:大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024;吉林大学集成光电子学国家重点实验室,长春,130023;吉林大学集成光电子学国家重点实验室,长春,130023
基金项目:国家自然科学基金资助项目(No.60307002),吉林大学创新基金
摘    要:
采用射频磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出c轴择优取向的ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,靶材为AZO(2;质量分数Al2O3)陶瓷靶.对在不同溅射功率下沉积出来的薄膜运用X射线衍射(XRD)、可见光区透射谱、四探针方法分别进行结构和光电特性的表征.得出在200W下沉积的膜性能最好,可见光区平均透过率达到89;以上,电阻率最低为9.3×10-4Ω·cm.

关 键 词:射频磁控溅射  透明导电薄膜  AZO膜
文章编号:1000-985X(2006)03-0569-04
收稿时间:2005-10-18
修稿时间:2005-10-18

Research on Preparation and Properties of Transparent Conductive ZnO:Al Thin films
XU Yi-bin,DU Guo-tong,LIU Wei-feng,YANG Tian-peng,WANG Xin-sheng. Research on Preparation and Properties of Transparent Conductive ZnO:Al Thin films[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(3): 569-572
Authors:XU Yi-bin  DU Guo-tong  LIU Wei-feng  YANG Tian-peng  WANG Xin-sheng
Abstract:
Keywords:RF magnetron sputtering  transparent conductive film  AZO film
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