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原子层沉积氧化物包覆层对奥克托金感度的影响
引用本文:秦利军,龚婷,郝海霞,王克勇,冯昊.原子层沉积氧化物包覆层对奥克托金感度的影响[J].高等学校化学学报,2015(3):420-427.
作者姓名:秦利军  龚婷  郝海霞  王克勇  冯昊
作者单位:1. 西安近代化学研究所材料表面工程与纳米修饰实验室; 燃烧与爆炸技术重点实验室,西安710065
2. 燃烧与爆炸技术重点实验室,西安,710065
3. 西安近代化学研究所材料表面工程与纳米修饰实验室
基金项目:人力资源和社会保障部留学人员择优资助经费;西安近代化学研究所青年创新基金(批准号:SJQC1323)资助~~
摘    要:通过原子层沉积(ALD)技术在微米级奥克托今(HMX)炸药颗粒表面包覆了氧化铝和氧化锌薄膜.采用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对包覆后HMX颗粒的表面化学组成和形貌进行了表征,利用差示扫描量热法和热重法分析了包覆后HMX的热分解行为.测试了ALD氧化物包覆的HMX的机械感度和静电火花感度,研究了HMX颗粒表面包覆层的组成和厚度对其感度的影响.结果表明,ALD氧化铝或氧化锌薄膜均能够完整、均匀地覆盖HMX颗粒的全部外表面,薄膜厚度在纳米尺度范围内精确可调.ALD氧化铝或氧化锌薄膜对HMX的热分解性能影响很小.由于金属氧化物具有很高的硬度,ALD氧化铝或氧化锌包覆膜不能降低HMX的机械感度.但氧化物薄膜具有一定的导电性,可降低HMX的静电火花感度.

关 键 词:原子层沉积(ALD)  奥克托今(HMX)  感度  氧化铝  氧化锌

Influences of Metal Oxide Encapsulation by Atomic Layer Deposition on the Sensitivities of Octogen
QIN Lijun , GONG Ting , HAO Haixia , WANG Keyong , FENG Hao.Influences of Metal Oxide Encapsulation by Atomic Layer Deposition on the Sensitivities of Octogen[J].Chemical Research In Chinese Universities,2015(3):420-427.
Authors:QIN Lijun  GONG Ting  HAO Haixia  WANG Keyong  FENG Hao
Institution:QIN Lijun;GONG Ting;HAO Haixia;WANG Keyong;FENG Hao;Material Surface Engineering and Nanofabrication Laboratory,Xi’an Modern Chemistry Research Institute;Science and Technology on Combusition and Explosion Laboratory,Xi’an Modern Chemistry Research Institute;
Abstract:
Keywords:Atomic layer deposition( ALD)  Octogen( HMX)  Sensitivity  Alumina  Zinc oxide
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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