| 纳米α-Al2O3磨料抛光单晶硅片光滑表面的形成机理 |
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| 引用本文： | 孙玉利,左敦稳,朱永伟,王珉.纳米α-Al2O3磨料抛光单晶硅片光滑表面的形成机理[J].化学物理学报,2007,20(6):643-648. |
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| 作者姓名： | 孙玉利 左敦稳 朱永伟 王珉 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学机电学院,南京210016,南京航空航天大学机电学院,南京210016,南京航空航天大学机电学院,南京210016,南京航空航天大学机电学院,南京210016 |
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| 摘 要： | "将纳米α-Al2O3粉体配制成抛光液并冷冻成冰结抛光垫对单晶硅片进行了抛光,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量了其表面粗糙度,采用透射电镜观察了单晶硅片抛光后的断面形貌．为进一步分析抛光过程中的化学作用机理,采用X射线光电子能谱分析了单晶硅片抛光后表面的化学成分．利用纳米压痕仪的划痕附件对单晶硅片进行了划痕测试,研究了抛光过程中的机械作用机理．结果表明纳米α-Al2O3磨料冰冻抛光单晶硅片时,在1 mm￡1 mm的范围内得到了微观表面粗糙度为0.367 nm的超光滑表面,亚表面没有任何损伤,材
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| 关 键 词： | 单晶硅片 纳米α-Al2O3磨料 冰冻固结磨料化学机械抛光 纳米划痕 塑性域加工 |
| 收稿时间： | 2007/7/23 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2007/7/23 0:00:00 |
Surface Formation of Single Silicon Wafer Polished with Nano-sized Al2O3 Powders |
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| Yu-li Sun,Dun-wen Zuo,Yong-wei Zhu and Min Wang.Surface Formation of Single Silicon Wafer Polished with Nano-sized Al2O3 Powders[J].Chinese Journal of Chemical Physics,2007,20(6):643-648. |
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| Authors: | Yu-li Sun Dun-wen Zuo Yong-wei Zhu and Min Wang |
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| Institution: | College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China,College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China,College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China,College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Single silicon wafer Nano-sized Al2O3 Ice fixed abrasives CMP Nanoscratch Ductile regime machining |
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