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应用XPS研究MoO_3在TiO_2,λ-Al_2O_3和SiO_2等载体表面上的分散量和表面状态
引用本文:桂琳琳,刘英骏,郭沁林,黄惠忠,唐有祺.应用XPS研究MoO_3在TiO_2,λ-Al_2O_3和SiO_2等载体表面上的分散量和表面状态[J].中国科学B辑,1985(6).
作者姓名:桂琳琳  刘英骏  郭沁林  黄惠忠  唐有祺
作者单位:北京大学物理化学研究所 (桂琳琳,刘英骏,郭沁林,黄惠忠),北京大学物理化学研究所(唐有祺)
摘    要:本文应用XPS法测定了MoO_3/TiO_2,MoO_3/γ-Al_2O_3和MoO_3/SiO_2等体系的I_(Mo3d)/I_(Ti2p),I_(Mo3d)/I_(Al2p),I_(Mo3d)/I_(Si2p)随MoO_3加入量(g/g载体)递变的关系。测定结果表明MoO_3在这几种载体上都有一分散阈值,阈值前MoO_3在载体上呈单层分散,阈值后剩余的MoO_3以晶粒形式分布在载体上。这些结果都与X射线相定量外推所得的结果吻合良好。说明这两种方法在研究氧化物负载型催化剂的分散量和表面状态上都是有效的。

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