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离子束增强沉积制备Cr—N薄膜及其摩擦学性能研究
引用本文:唐宾 杨生荣. 离子束增强沉积制备Cr—N薄膜及其摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报, 1998, 18(2): 113-118
作者姓名:唐宾 杨生荣
作者单位:[1]西安交通大学金属材料强度国家重点实验室 [2]中国科学院兰州化学物理研究所
摘    要:利用离子束增强沉积(IBED)技术制备了Cr-N薄膜,并对不同能量氮离子轰击所制备的薄膜组成进行了X射线衍射及光电子能谱分析,测定了涂层的断裂性值,并对涂层的摩擦学性能进行了研究。结果表明:在相同试验条件下,氮离子轰击能量影响Cr-N薄膜的相组成及取向,采用低能量氮离子轰击所得到的薄膜具有较高的断裂韧性和优异的耐磨性能。

关 键 词:离子束增强沉积 薄膜 断裂韧性 摩擦学性能

Characterizations and Tribological Performance of Cr N Coating by IBED
Tang Bin Zhu Xiaodong Liu Daoxin Xu Kewei. Characterizations and Tribological Performance of Cr N Coating by IBED[J]. Tribology, 1998, 18(2): 113-118
Authors:Tang Bin Zhu Xiaodong Liu Daoxin Xu Kewei
Abstract:
Keywords:IBED film friction wear Classifying number  
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