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| 氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究 | |
| 作者姓名： | 李晓莉 谢方艳 龚力 张卫红 于晓龙 陈建 |
| 作者单位： | 1.海南大学材料与化工学院;2.中山大学测试中心 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51072236,21106190);广东省自然科学基金项目(105102750100094);佛山市科技计划项目(2011BC100023) |
| 摘 要： | 利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,通过改变氩离子枪的刻蚀模式,原位研究氩离子刻蚀对氧化铜的还原情况。结果发现在极其微弱的氩离子束流轰击下,CuO即被还原,刻蚀初期变化较大,之后达到稳恒状态。对Cu2p峰拟合,同时结合俄歇CuLMM峰变化,判定纯CuO经氩离子刻蚀后最终转变为氧化铜、氧化亚铜及少量单质铜的共存状态。研究结果将对氧化铜深度剖析中化学状态的判断具有重要参考价值。 |
| 关 键 词： | 氧化铜 氩离子刻蚀 X射线光电子能谱 还原 |
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